特許

J-GLOBAL ID：201203061518754483

塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： 市川 幸司 ,  落合 光良
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-162913
公開番号（公開出願番号）：特開2012-067075
出願日： 2011年07月26日
公開日（公表日）： 2012年04月05日
要約：

【課題】従来の酸発生剤を含むレジスト組成物では、得られるパターンのCD均一性(CDU)が必ずしも満足できない場合があった。【解決手段】式(I)で表される塩。[式(I)中、Q1及びQ2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。L1は、2価の炭素数1〜17の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基を構成しているメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい。環Wは、炭素数4〜36の脂肪族環を表し、該脂肪族環を構成しているメチレン基は、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基又はスルホニル基で置き換わっていてもよい。Z+は、有機カチオンを表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で表される塩。

IPC (5件)：

C07D 307/33 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C09K 3/00 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

C07D307/32 G ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  C09K3/00 K ,  H01L21/30 502R

Fターム (22件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4C037EA10