特許

J-GLOBAL ID：201203061640153490

反射防止フィルムおよびその製造方法

発明者： 柴山 直之 ,  吉原 俊昭
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-200195
公開番号（公開出願番号）：特開2012-058415
出願日： 2010年09月07日
公開日（公表日）： 2012年03月22日
要約：

【課題】本発明にあっては優れた光学特性、帯電防止性能、高い耐擦傷性と低い製造コストを両立した反射防止フィルムを提供することを課題とする。【解決手段】本発明は、透明基材の少なくとも一方の面に偏在層と、低屈折率層をこの順で積層した反射防止フィルムであって、前記偏在層は、電離放射線硬化型材料と、四級アンモニウム塩と、アミド基を有する重合性モノマーと、レベリング材料を含んでおり、且つ、前記偏在層が、少なくとも透明基材側から中間層、ハードコート層、前記四級アンモニウム塩を偏在させた帯電防止層、前記アミド基を有する重合性モノマーを偏在させたアミド層、前記レベリング材料を偏在させたレベリング層の順に偏在して積層されることを特徴とする反射防止フィルムである。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

透明基材の少なくとも一方の面に偏在層と、低屈折率層をこの順で積層した反射防止フィルムであって、 前記偏在層は、電離放射線硬化型材料と、四級アンモニウム塩と、アミド基を有する重合性モノマーと、レベリング材料を含んでおり、且つ、 前記偏在層が、少なくとも透明基材側から中間層、ハードコート層、前記四級アンモニウム塩を偏在させた帯電防止層、前記アミド基を有する重合性モノマーを偏在させたアミド層、前記レベリング材料を偏在させたレベリング層の順に偏在して積層されることを特徴とする反射防止フィルム。

IPC (5件)：

G02B 1/11 ,  B32B 7/02 ,  B32B 27/16 ,  B32B 27/18 ,  G02B 1/10

FI (5件)：

G02B1/10 A ,  B32B7/02 103 ,  B32B27/16 ,  B32B27/18 D ,  G02B1/10 Z

Fターム (26件)：

2K009AA04 ,  2K009AA15 ,  2K009BB28 ,  2K009CC09 ,  2K009CC24 ,  2K009CC35 ,  2K009EE03 ,  4F100AH03B ,  4F100AJ06 ,  4F100AK25 ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100CA22B ,  4F100EH462 ,  4F100EJ523 ,  4F100GB41 ,  4F100JA07B ,  4F100JB14B ,  4F100JG03B ,  4F100JN01A ,  4F100JN06 ,  4F100JN08 ,  4F100JN18C ,  4F100YY00B