パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高松猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-286766
公開番号（公開出願番号）：特開2012-027436
出願日： 2010年12月22日
公開日（公表日）： 2012年02月09日
要約：

【課題】ブリッジ前寸法等の解像力、ラインエッジラフネス等のラフネス性能、現像時間依存性に優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。【解決手段】(ア)活性光線又は放射線の照射により酸を発生し、かつ酸の作用により分解し有機溶剤に対する溶解度が減少する化合物(A)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、及び(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含む、パターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(ア)活性光線又は放射線の照射により酸を発生し、かつ酸の作用により分解し有機溶剤に対する溶解度が減少する化合物(A)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、 (イ)該膜を露光する工程、及び (ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含む、パターン形成方法。

IPC (6件)：

G03F 7/32 , G03F 7/039 , G03F 7/038 , G03F 7/004 , H01L 21/027 , C08F 20/00

FI (7件)：

G03F7/32 , G03F7/039 601 , G03F7/038 601 , G03F7/004 503A , H01L21/30 569E , H01L21/30 502R , C08F20/00

Fターム (89件)：

2H096AA25 , 2H096BA06 , 2H096EA05 , 2H096GA04 , 2H096GA18 , 2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF19P , 2H125AF20P , 2H125AF21P , 2H125AF22P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AF39P , 2H125AF45P , 2H125AH06 , 2H125AH07 , 2H125AH12 , 2H125AH14 , 2H125AH15 , 2H125AH19 , 2H125AH22 , 2H125AH24 , 2H125AH29 , 2H125AJ14X , 2H125AJ18X , 2H125AJ63X , 2H125AJ65X , 2H125AJ66X , 2H125AJ68X , 2H125AJ69X , 2H125AL02 , 2H125AL03 , 2H125AL11 , 2H125AM10P , 2H125AM12P , 2H125AM22P , 2H125AM23P , 2H125AM27P , 2H125AM30P , 2H125AM43P , 2H125AM66P , 2H125AM86P , 2H125AM99P , 2H125AN08P , 2H125AN37P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN45P , 2H125AN51P , 2H125AN54P , 2H125AN56P , 2H125AN57P , 2H125AN62P , 2H125AN63P , 2H125AN64P , 2H125AN65P , 2H125AN86P , 2H125AN88P , 2H125BA01P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125BA32P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC01 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 2H125FA05 , 4J100AL03R , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA02Q , 4J100BA03Q , 4J100BA03R , 4J100BA40P , 4J100BC03R , 4J100BC04Q , 4J100BC04R , 4J100BC09Q , 4J100BC09R , 4J100BC53P , 4J100BC53Q , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100JA38 , 5F046LA12

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