特許
J-GLOBAL ID:201203063528465520

ガスセルの製造方法およびガスセル

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人朝日特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-195974
公開番号(公開出願番号):特開2012-183290
出願日: 2011年09月08日
公開日(公表日): 2012年09月27日
要約:
【課題】ガスセルの特性の均一性を向上させること。【解決手段】ガスセルの製造方法は、板材の面にコーティング層を形成するコーティング工程と、前記コーティング層が形成された複数の前記板材を、前記コーティング層が形成された面で囲まれたセルを形成するように組み立てる組立工程と、前記形成されたセル内にアルカリ金属ガスを充填する充填工程とを有する。【選択図】図5
請求項(抜粋):
板材の面にコーティング層を形成するコーティング工程と、 前記コーティング層が形成された複数の前記板材を、前記コーティング層が形成された面で囲まれたセルを形成するように組み立てる組立工程と、 前記形成されたセル内にアルカリ金属原子を充填する充填工程と を有するガスセルの製造方法。
IPC (5件):
A61B 5/05 ,  G01R 33/26 ,  H01J 9/02 ,  H01J 11/22 ,  H01J 11/34
FI (4件):
A61B5/05 A ,  G01R33/26 ,  H01J9/02 F ,  H01J11/02 B
Fターム (5件):
4C027AA10 ,  4C027EE01 ,  4C027KK01 ,  5C027AA09 ,  5C040GF19
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 原子発振器
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2007-313135   出願人:エプソントヨコム株式会社
  • 磁場計測装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2008-252091   出願人:株式会社日立ハイテクノロジーズ
審査官引用 (2件)
  • 原子発振器
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2007-313135   出願人:エプソントヨコム株式会社
  • 磁場計測装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2008-252091   出願人:株式会社日立ハイテクノロジーズ

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