特許

J-GLOBAL ID：201203064515059678

弾性表面波霧化装置

発明者： 石上 陽平 ,  岡野 正紀 ,  節原 裕一
出願人/特許権者： パナソニック株式会社
代理人 (3件)： 板谷 康夫 ,  田口 勝美 ,  水田 愼一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-010561
公開番号（公開出願番号）：特開2012-148256
出願日： 2011年01月21日
公開日（公表日）： 2012年08月09日
要約：

【課題】弾性表面波霧化装置において、液体供給が容易で液体供給量と霧化量のバランスを安定に保ち、大型化することなく、より少ない消費電力でより大量の微細粒子を安定発生可能とする。【解決手段】弾性表面波霧化装置1は、圧電材料から成る基板2を備え、その表面Sには弾性表面波Wを生成するための一対の櫛形電極3および弾性表面波Wの伝搬領域に達する溝4が形成されている。弾性表面波霧化装置1は、溝4の一端側に投入された液体5を毛細管現象によって弾性表面波Wの伝搬領域に供給して溝4内に保持し、溝4の底表面を伝搬する弾性表面波Wによって霧化する。液体5は、溝4と毛細管現象とによって弾性表面波Wの伝搬領域に安定供給され、必要十分な量と液体層の厚さに維持される。溝4は基板表面Sと接する縁に傾斜面4aを有して滑らかに形成され、弾性表面波Wの反射が抑制されている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

一対の櫛形電極が形成された圧電材料から成る基板を備え、前記櫛形電極に高周波電圧を印加することにより前記基板の表面に弾性表面波を生成し、この弾性表面波によって前記基板の表面に供給される液体を霧化する弾性表面波霧化装置において、 前記基板の表面には溝が形成されており、 前記溝の一端側に投入された液体を毛細管現象によって弾性表面波の伝搬領域に供給し、前記溝の底表面を伝搬する弾性表面波によって霧化することを特徴とする弾性表面波霧化装置。

IPC (1件)：

B05B 17/06

FI (1件)：

B05B17/06

Fターム (6件)：

4D074BB02 ,  4D074DD02 ,  4D074DD09 ,  4D074DD11 ,  4D074DD22 ,  4D074DD32