レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-071493
公開番号（公開出願番号）：特開2012-226325
出願日： 2012年03月27日
公開日（公表日）： 2012年11月15日
要約：

【課題】優れたCD均一性を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】(A)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、(B)アルカリ現像液の作用により開裂する構造を有する酸発生剤及び(D)式(I)で表される化合物を含有するレジスト組成物。[式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素数1〜12の炭化水素基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜7のアシル基、炭素数2〜7のアシルオキシ基、炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子を表す。m及びnは、それぞれ独立に、0〜4の整数を表し、mが2以上の場合、複数のR1は同一又は相異なり、nが2以上の場合、複数のR2は同一又は相異なる。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、 (B)アルカリ現像液の作用により開裂する構造を有する酸発生剤及び (D)式(I)で表される化合物を含有するレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , C09K 3/00 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F7/004 501 , G03F7/039 601 , G03F7/004 503A , C09K3/00 K , H01L21/30 502R

Fターム (26件)：

2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF27P , 2H125AF38P , 2H125AF41P , 2H125AF70P , 2H125AH05 , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AJ14X , 2H125AJ65X , 2H125AJ68X , 2H125AJ69X , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN45P , 2H125AN54P , 2H125AN63P , 2H125BA02P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 4H006AA03 , 4H006AB78

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