特許
J-GLOBAL ID:201203066673507630
偏光フィルムの製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
植木 久一
, 植木 久彦
, 菅河 忠志
, 伊藤 浩彰
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-271428
公開番号(公開出願番号):特開2012-141597
出願日: 2011年12月12日
公開日(公表日): 2012年07月26日
要約:
【課題】二色比の高い偏光フィルムを得ることができる製造方法を提供する。【解決手段】本発明の偏光フィルムの製造方法は、(1)スメクチック相を示す重合性液晶化合物、二色性色素、光重合開始剤及び溶剤を含む重合性液晶組成物を、基板上に塗布し、溶媒を除去することにより乾燥塗膜を形成する第1工程と、(2)前記第1工程で得られた乾燥塗膜に含まれる液晶性成分が、液晶状態となる温度に乾燥塗膜を保持することにより、該液晶性成分を配向させる第2工程と、(3)前記第2工程で配向させた塗膜に、前記液晶性成分の配向方向と偏光の振動方向とのなす角度が45度以上90度以下の範囲である偏光を照射することにより、基板上に形成された偏光フィルムを得る第3工程とを含む。【選択図】なし
請求項(抜粋):
(1)スメクチック相を示す重合性液晶化合物、二色性色素、光重合開始剤及び溶剤を含む重合性液晶組成物を、基板上に塗布し、溶媒を除去することにより乾燥塗膜を形成する第1工程と、
(2)前記第1工程で得られた乾燥塗膜に含まれる液晶性成分が液晶状態となる温度に乾燥塗膜を保持することにより、該液晶性成分を配向させる第2工程と、
(3)前記第2工程で配向させた塗膜に、前記液晶性成分の配向方向と偏光の振動方向とのなす角度が45度以上90度以下の範囲である偏光を照射することにより、基板上に形成された偏光フィルムを得る第3工程とを含む偏光フィルムの製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
G02B5/30
, G02F1/1335 510
Fターム (43件):
2H149AA02
, 2H149AB05
, 2H149BA02
, 2H149BA15
, 2H149BB05
, 2H149BB10
, 2H149BB24
, 2H149FA24W
, 2H149FA28W
, 2H149FA58W
, 2H149FD28
, 2H191FA02Y
, 2H191FA11X
, 2H191FA11Z
, 2H191FA14Y
, 2H191FA22X
, 2H191FA22Z
, 2H191FA30X
, 2H191FA30Z
, 2H191FA31Z
, 2H191FA40X
, 2H191FA42Z
, 2H191FA56X
, 2H191FA56Z
, 2H191FA58X
, 2H191FA62Z
, 2H191FA71Z
, 2H191FA82Z
, 2H191FA84Z
, 2H191FA85Z
, 2H191FA86Z
, 2H191FA87Z
, 2H191FB05
, 2H191FC13
, 2H191FC32
, 2H191FC33
, 2H191FD07
, 2H191FD22
, 2H191FD26
, 2H191LA22
, 2H191MA13
, 2H191PA44
, 2H191PA65
引用特許:
審査官引用 (3件)
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表示装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2009-056326
出願人:住友化学株式会社
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特開昭62-169104
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偏光フィルムの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-115535
出願人:住友化学工業株式会社
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