X線応力測定装置

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (4件)：綿貫達雄 , 山本文夫 , 関根由布 , 喜多静夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-147324
公開番号（公開出願番号）：特開2012-013423
出願日： 2010年06月29日
公開日（公表日）： 2012年01月19日
要約：

【課題】測定対象物へのX線の照射密度を高めた場合にも、バックグラウンドとなる蛍光X線に影響されることなく回折X線のピークを正確に判別することができるX線応力測定装置を提供する。【解決手段】金属試料表面にX線を照射するX線照射手段と、金属試料表面から発せられる回折X線を検出するX線検出手段と、回折X線の波長変化から金属の応力を演算する演算手段とを備えたX線応力測定装置において、X線検出手段と金属試料表面との間にTiフィルタとCl化合物フィルタとを備えたことを特徴とする。なおTiとCl化合物とを含有するフィルタを用いてもよい。TiフィルタはFeの蛍光X線を低減させ、Cl化合物フィルタはTiの蛍光X線を低減させる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

金属試料表面にX線を照射するX線照射手段と、金属試料表面から発せられる回折X線を検出するX線検出手段と、回折X線の波長変化から金属の応力を演算する演算手段とを備えたX線応力測定装置において、 X線検出手段と金属試料表面との間にTiフィルタとCl化合物フィルタとを備えたことを特徴とするX線応力測定装置。

IPC (3件)：

G01N 23/207 , G01L 1/25 , G21K 3/00

FI (3件)：

G01N23/207 , G01L1/25 , G21K3/00 M

Fターム (15件)：

2G001AA01 , 2G001BA04 , 2G001BA18 , 2G001CA01 , 2G001EA03 , 2G001EA06 , 2G001EA20 , 2G001GA08 , 2G001HA01 , 2G001KA07 , 2G001LA02 , 2G001NA10 , 2G001NA17 , 2G001SA01 , 2G001SA10

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