特許

J-GLOBAL ID：201203071812960739

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： 市川 幸司 ,  釜淵 明 ,  金 亨柱
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-033545
公開番号（公開出願番号）：特開2012-190011
出願日： 2012年02月20日
公開日（公表日）： 2012年10月04日
要約：

【課題】CD均一性が良好で、かつ欠陥が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。【解決手段】(A1)式(I)で表される構造単位を有する樹脂、(A2)式(II)で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、(B)酸発生剤及び(E)溶剤を含有するレジスト組成物。[式中、R2は、フッ素原子を有する炭化水素基;環T1は、置換基を有していてもよい炭素数3〜34のスルトン環を表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A1)式(I)で表される構造単位を有する樹脂、 (A2)式(II)で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び、 (B)酸発生剤を含有するレジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  C08F 20/26 ,  C08F 20/58 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  C08F20/26 ,  C08F20/58 ,  H01L21/30 502R

Fターム (53件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH04 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM22P ,  2H125AM99P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA34P ,  4J100BA55P ,  4J100BB07P ,  4J100BB17P ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53Q ,  4J100BC84P ,  4J100BC84Q ,  4J100CA04 ,  4J100JA38