ガス流複合汚染物質制御システムおよび方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：山本秀策 , 安村高明 , 森下夏樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-553055
公開番号（公開出願番号）：特表2012-519076
出願日： 2010年03月02日
公開日（公表日）： 2012年08月23日
要約：

いくつかの実施形態において、本発明は、排ガス流を水溶液と接触させる工程、二酸化炭素および/または追加の成分を排ガス流から除去する工程、および、二酸化炭素および/または追加の成分を1種以上の形態で、組成物中に含有させる工程を含む、排ガス流の二酸化炭素および/または追加の成分を除去するためのシステムおよび方法を提供する。いくつかの実施形態において、組成物は、炭酸塩、重炭酸塩、または、炭酸塩および重炭酸塩を含む沈殿物質である。いくつかの実施形態において、組成物は、SOx、NOx、粒状物質および/または一定の金属の共処理からもたらされる炭酸塩および/または重炭酸塩共生成物をさらに含む。液体、固体または多相性廃棄物流などの追加の廃棄物流もまた処理され得る。

請求項（抜粋）：

産業廃ガスを処理する方法であって、前記ガスは、二酸化炭素と、 (a)SOx; (b)NOx; (c)金属; (d)非二酸化炭素酸性ガス; (e)有機物;および (f)粒状物質からなる群から選択される少なくとも1種の他の成分とを含み、前記二酸化炭素および前記他の成分の少なくともいくらかが前記ガスを出て液体に入るよう適応された条件下で、前記ガスを前記液体と接触させる工程を含み、単一の処理装置で実施される方法。

IPC (10件)：

B01D 53/62 , C01B 31/20 , B01D 53/72 , B01D 53/77 , B01D 53/50 , B01D 53/56 , B01D 53/68 , B01D 53/64 , B09B 1/00 , B09B 3/00

FI (13件)：

B01D53/34 135Z , C01B31/20 B , B01D53/34 120E , B01D53/34 125D , B01D53/34 130D , B01D53/34 134B , B01D53/34 134D , B01D53/34 136A , B01D53/34 136Z , B09B1/00 A , B09B3/00 304Z , B09B3/00 304G , B09B3/00 Z

Fターム (49件)：

4D002AA02 , 4D002AA09 , 4D002AA12 , 4D002AA19 , 4D002AA22 , 4D002AA28 , 4D002AA29 , 4D002AA40 , 4D002AC04 , 4D002AC07 , 4D002AC10 , 4D002BA02 , 4D002BA14 , 4D002CA06 , 4D002DA05 , 4D002DA16 , 4D002DA17 , 4D002EA02 , 4D002EA13 , 4D002FA10 , 4D002GA01 , 4D002GB02 , 4D002HA01 , 4D004AA37 , 4D004AA50 , 4D004AB03 , 4D004AB05 , 4D004AB06 , 4D004AB08 , 4D004AC05 , 4D004BA02 , 4D004BB03 , 4D004CA04 , 4D004CA13 , 4D004CA14 , 4D004CA40 , 4D004CA42 , 4D004CC11 , 4D004CC12 , 4D004DA03 , 4D004DA06 , 4D004DA09 , 4D004DA20 , 4G146JA02 , 4G146JB09 , 4G146JC14 , 4G146JC40 , 4G146JD05 , 4G146JD10

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