薄膜形成装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-113547
公開番号（公開出願番号）：特開2012-243988
出願日： 2011年05月20日
公開日（公表日）： 2012年12月10日
要約：

【課題】均一性に優れた高品質な薄膜が形成可能な、酸化物薄膜原料を含んだ水溶液の霧化による薄膜形成用の量産装置を提供する。【解決手段】基板が成長室6の上側に固定して設置され、その下側に設置された貫通孔プレート4とそのさらに下側に設置された整流羽根5の両者が回転することにより、基板に対して均一にミスト7を供給することが可能となる。また、回転部分である貫通孔プレート4と整流羽根5の両者が一体で、これが固定されている基板2に対して回転する。これにより、両者を一体で製作するため部品数が少なくなり、かつ回転部分を一箇所のみにすることができるため、装置構造を簡略化することができる。また、基板回転を行わないため、基板加熱機構(ヒータ)1も簡略化できる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板が上側に固定して設置され、その下側に設置された貫通孔プレートとそのさらに下側に設置された整流羽根の両者が回転する構造を備えたミストを用いた薄膜形成装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 , H01L 21/365 , H01L 21/31

FI (3件)：

H01L21/205 , H01L21/365 , H01L21/31 B

Fターム (13件)：

5F045AA03 , 5F045AB22 , 5F045BB01 , 5F045DP05 , 5F045DP28 , 5F045DQ10 , 5F045EC01 , 5F045EE01 , 5F045EF01 , 5F045EF05 , 5F045EK05 , 5F045EM03 , 5F045GB09

前のページに戻る