特許

J-GLOBAL ID：201203073147537008

薄膜形成装置及び薄膜形成方法

発明者： 滝澤 一樹
出願人/特許権者： 三井造船株式会社
代理人 (1件)： グローバル・アイピー東京特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-050997
公開番号（公開出願番号）：特開2012-188684
出願日： 2011年03月09日
公開日（公表日）： 2012年10月04日
要約：

【課題】プラズマを用いて基板に薄膜を形成するとき、従来に比べて成膜速度が向上する薄膜形成装置および薄膜形成方法を提供する。【解決手段】薄膜形成装置は、減圧状態で基板載置面に載置した基板に薄膜を形成する成膜空間を備える成膜容器と、前記成膜空間内の前記基板載置面の上方において、前記基板載置面に対して対向する面に分散した複数のガス導入孔を通して前記成膜空間内に薄膜用原料ガスを導入する原料ガス導入部と、前記原料ガス導入部の上方に設けられ、電流が一方の端面から他方の端面に流れる板部材をプラズマ生成素子として有し、前記薄膜用原料ガスを用いて前記成膜空間においてプラズマを生成させるプラズマ電極部と、前記基板載置面に、負電圧のバイアス電圧を印加するバイアス電圧部と、を有する。この装置を用いて、薄膜を基板に形成する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板に薄膜を形成する薄膜形成装置であって、 減圧状態で基板載置面に載置した基板に薄膜を形成する成膜空間を備える成膜容器と、 前記成膜空間内の前記基板載置面の上方において、前記基板載置面に対して対向する面上に分散した複数のガス導入孔を通して前記成膜空間内に薄膜用原料ガスを導入する原料ガス導入部と、 前記原料ガス導入部の上方に設けられ、電流が一方の端面から他方の端面に流れる板部材をプラズマ生成素子として有し、前記薄膜用原料ガスを用いて前記成膜空間においてプラズマを生成させるプラズマ電極部と、 前記基板載置面に、負電圧のバイアス電圧を印加するバイアス電圧部と、を有する、ことを特徴とする薄膜形成装置。

IPC (3件)：

C23C 16/509 ,  H05H 1/46 ,  H01L 31/04

FI (3件)：

C23C16/509 ,  H05H1/46 L ,  H01L31/04 V

Fターム (17件)：

4K030AA06 ,  4K030AA17 ,  4K030BA29 ,  4K030BB04 ,  4K030CA06 ,  4K030CA12 ,  4K030FA03 ,  4K030JA09 ,  4K030JA16 ,  4K030JA17 ,  4K030KA20 ,  4K030LA16 ,  5F151AA04 ,  5F151AA05 ,  5F151CA15 ,  5F151CA23 ,  5F151CB12