特許
J-GLOBAL ID：201203073228217008
光配向膜の製造方法、位相差フィルムの製造方法、光配向膜製造システム、光配向膜及び位相差フィルム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
岸本 達人
, 山下 昭彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-152167
公開番号（公開出願番号）：特開2012-014064
出願日： 2010年07月02日
公開日（公表日）： 2012年01月19日
要約：
【課題】安価で簡便な装置や非平行光を用いて、連続搬送する長尺状の樹脂基材を用いても容易に、かつ、搬送方向に囚われずに高精度なパターン状の露光が可能な光配向膜の製造方法を提供すること。【解決手段】(i)長尺状の第一の透明樹脂基材の一面側に配向膜を備える被照射基材及び長尺状の第二の透明樹脂基材の一面側に所望の紫外線遮蔽パターンを有する長尺状のフォトマスクを準備する工程、(ii)被照射基材を連続で供給する工程、(iii)フォトマスクを連続で供給する工程、(iv)被照射基材の配向膜側の面に、フォトマスクを貼り合わせて積層体とする工程、(v)積層体を搬送しながら、フォトマスクを介して配向膜に一定の偏光方向の直線偏光を照射し、配向膜をパターン露光する工程、(vi)積層体からフォトマスクを剥離する工程、を含むことを特徴とする、光配向膜の製造方法。【選択図】図9
請求項（抜粋）：
(i)長尺状の第一の透明樹脂基材の一面側に配向膜を備える被照射基材及び長尺状の第二の透明樹脂基材の一面側に所望の紫外線遮蔽パターンを有する長尺状のフォトマスクを準備する工程、
(ii)前記被照射基材を連続で供給する工程、
(iii)前記フォトマスクを連続で供給する工程、
(iv)前記(ii)工程で供給された被照射基材の配向膜側の面に、前記(iii)工程で供給されたフォトマスクを貼り合わせて積層体とする工程、
(v)前記(iv)工程で得られた積層体を当該積層体の長手方向に搬送しながら、前記フォトマスクを介して前記配向膜に一定の偏光方向の直線偏光を照射し、当該配向膜をパターン露光する工程、
(vi)前記(v)工程で直線偏光を照射した積層体からフォトマスクを剥離する工程、を含むことを特徴とする、光配向膜の製造方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G02B5/30
, G02F1/1337
, G02F1/13363
2H090HB07Y
, 2H090HC11
, 2H090HC13
, 2H090HC17
, 2H090HC18
, 2H090LA06
, 2H090MA15
, 2H090MB12
, 2H149AA02
, 2H149AA20
, 2H149AB01
, 2H149AB26
, 2H149DA01
, 2H149DA02
, 2H149DA12
, 2H149DB06
, 2H149FA02Z
, 2H149FA26Y
, 2H191FA30
, 2H191MA01
, 2H191PA84
