レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 五十嵐光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-244298
公開番号（公開出願番号）：特開2012-098390
出願日： 2010年10月29日
公開日（公表日）： 2012年05月24日
要約：

【課題】リソグラフィー特性が良好なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、該レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物及び酸発生剤の提供。【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)として、一般式(b1-1)で表される基をカチオン部に有する酸発生剤(B1)を含有するレジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分(B)は、下記一般式(b1-1)で表される基をカチオン部に有する酸発生剤(B1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。

IPC (13件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , H01L 21/027 , C07C 309/06 , C07C 311/04 , C07C 311/48 , C07C 309/10 , C07C 309/17 , C07C 309/12 , C07C 311/03 , C07C 309/09 , C07C 317/04 , C07C 309/19

FI (13件)：

G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R , C07C309/06 , C07C311/04 , C07C311/48 , C07C309/10 , C07C309/17 , C07C309/12 , C07C311/03 , C07C309/09 , C07C317/04 , C07C309/19

Fターム (44件)：

2H125AC00 , 2H125AC21 , 2H125AC79 , 2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AF39P , 2H125AF41P , 2H125AF45P , 2H125AF70P , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH23 , 2H125AJ14X , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AJ69X , 2H125AN02P , 2H125AN11P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN54P , 2H125AN63P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 4C071AA03 , 4C071BB01 , 4C071CC11 , 4C071EE04 , 4C071FF17 , 4C071GG01 , 4C071GG06 , 4C071HH09 , 4C071JJ01 , 4C071LL05 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB81

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