特許

J-GLOBAL ID：201203074238020322

液晶性ブロック共重合体塗膜、液晶性ブロック共重合体薄膜の製造方法及びパターン形成方法

発明者： 新納 洋 ,  野殿 光史 ,  彌田 智一 ,  小村 元憲
出願人/特許権者： 三菱レイヨン株式会社 ,  国立大学法人東京工業大学
代理人 (6件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-104466
公開番号（公開出願番号）：特開2012-233138
出願日： 2011年05月09日
公開日（公表日）： 2012年11月29日
要約：

【課題】液晶性ブロック共重合体のミクロ相分離構造が一軸水平配向したナノパターンを有する良好な品質の液晶性ブロック共重合体薄膜を、大面積でも簡便に安定して製造する。【解決手段】表面をラビング処理した配向基板14上に、液晶性ブロック鎖(A)及び該液晶性ブロック鎖(A)と非相溶なブロック鎖(B)を有する液晶性ブロック共重合体(I)と、前記ブロック鎖(A)及びブロック鎖(B)の両方と非相溶な疎水性材料(II)を含む液晶性ブロック共重合体塗膜16Aを形成する工程と、液晶性ブロック共重合体塗膜16Aを加熱処理して液晶性ブロック共重合体薄膜前駆体を形成する工程と、前記液晶性ブロック共重合体薄膜前駆体から前記疎水性材料(II)を除去する工程を有する、液晶性ブロック共重合体薄膜の製造方法。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

液晶性ブロック鎖(A)及び該液晶性ブロック鎖(A)と非相溶なブロック鎖(B)を有する液晶性ブロック共重合体(I)100質量部、並びに前記ブロック鎖(A)及びブロック鎖(B)の両方と非相溶な疎水性材料(II)0.001〜1000質量部を含む液晶性ブロック共重合体塗膜。

IPC (5件)：

C08J 5/18 ,  C08L 53/00 ,  C08L 83/04 ,  B82Y 30/00 ,  B82Y 40/00

FI (5件)：

C08J5/18 ,  C08L53/00 ,  C08L83/04 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00

Fターム (8件)：

4F071AA33X ,  4F071AA47X ,  4F071AA67 ,  4F071BC01 ,  4F071BC02 ,  4J002BP03W ,  4J002CP03X ,  4J002GQ01

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ブロック共重合体、及びミクロ相分離構造膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-315420   出願人：財団法人理工学振興会
• 自立性高分子薄膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-126425   出願人：国立大学法人東京工業大学, 国立大学法人京都工芸繊維大学
• 一軸水平配向ミクロ相分離構造を有するブロック共重合体薄膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-133967   出願人：三菱レイヨン株式会社
• パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-075630   出願人：大日本印刷株式会社