特許

J-GLOBAL ID：201203074811327365

水素除去装置及び方法

発明者： 田原 美香 ,  松永 健太郎 ,  栗田 智久 ,  北島 靖己 ,  小室 三男
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 特許業務法人東京国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-229944
公開番号（公開出願番号）：特開2012-083226
出願日： 2010年10月12日
公開日（公表日）： 2012年04月26日
要約：

【課題】雰囲気に存在する水素に対し、化学量論的に過不足なく酸素を供給し、水に化学変化させる水素除去技術を提供する。【解決手段】水素除去装置10において、水素含有ガスに外側が晒されるとともに内側に供給される酸化性ガスにより前記水素含有ガス中の水素を酸化する反応媒体20と、前記酸化性ガスを反応媒体20の内側に供給するガス供給体30と、を備える構成とした。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

水素含有ガスに外側が晒されるとともに内側に供給される酸化性ガスにより前記水素含有ガス中の水素を酸化させる反応媒体と、 前記酸化性ガスを前記反応媒体の内側に供給するガス供給体と、を備えることを特徴とする水素除去装置。

IPC (3件)：

G21C 9/00 ,  G21F 9/02 ,  B01D 53/86

FI (3件)：

G21C9/00 K ,  G21F9/02 541B ,  B01D53/36 B

Fターム (17件)：

2G002BA01 ,  2G002DA05 ,  4D048AA30 ,  4D048AB01 ,  4D048BA28X ,  4D048BA31X ,  4D048BA34X ,  4D048BA41X ,  4D048BA42X ,  4D048CC41 ,  4G169AA03 ,  4G169BB04B ,  4G169BC32B ,  4G169BC62B ,  4G169BC72B ,  4G169CA07 ,  4G169CA11