特許
J-GLOBAL ID:201203075251160881

スフェロイド作製装置およびスフェロイド作製方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  福田 浩志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-210876
公開番号(公開出願番号):特開2012-065555
出願日: 2010年09月21日
公開日(公表日): 2012年04月05日
要約:
【課題】スフェロイドを短時間で形成でき、スフェロイドのサイズや形状の制御が容易であり、また、特別な装置が不要なスフェロイド作製装置およびスフェロイド作製方法の提供。【解決手段】ガドリニウム化合物を配合した培養液中で細胞が培養される培養容器と、磁場勾配を有する磁場を培養容器に印加する磁場印加手段と、を備えるスフェロイド作製装置。【選択図】図1
請求項(抜粋):
培養液の磁化率を増大させ得る磁化率増大化合物を含有する培養液中で細胞が培養される培養容器と、 磁場勾配を有する磁場を培養容器に印加する磁場印加手段と、 を備えるスフェロイド作製装置。
IPC (4件):
C12M 1/42 ,  C12N 5/071 ,  C12M 1/00 ,  C12M 3/00
FI (4件):
C12M1/42 ,  C12N5/00 202A ,  C12M1/00 A ,  C12M3/00 A
Fターム (7件):
4B029AA27 ,  4B029BB11 ,  4B029DG10 ,  4B065AA90X ,  4B065BB02 ,  4B065BC50 ,  4B065CA44
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 国際公開第2007/097121パンフレット
審査官引用 (2件)

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