特許
J-GLOBAL ID：201203075947698533
1-ヘキセンの製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
中山 亨
, 坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-071307
公開番号（公開出願番号）：特開2012-224617
出願日： 2012年03月27日
公開日（公表日）： 2012年11月15日
要約：
【課題】エチレンより1-ヘキセンを製造する場合に、副生ポリマー量を低減する製造方法を提供する。【解決手段】下記工程を有する1-ヘキセンの製造方法。工程1:式(1-3)に代表される遷移金属錯体と有機アルミニウム化合物とを接触させる触媒成分の調製工程工程2:更に、ホウ素化合物とを接触させて得られる触媒の存在下、エチレンを三量化させる工程R1〜R4はメチル基、R5〜R21は水素又はメチル基、X1〜X3は塩素又はメチル基、Jはケイ素、Mはチタン【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記工程1及び2を有する1-ヘキセンの製造方法。
工程1:下記一般式(1-1)〜(1-3)のいずれかで表される遷移金属錯体と下記化合物(A)とを、エチレンの非存在下で接触させる触媒成分の調製工程
工程2:工程1で得られた触媒成分と下記化合物(B)とを接触させて得られる触媒の存在下、エチレンを三量化させる工程
一般式(1-1)
IPC (4件)：
C07C 2/32
, C07C 2/24
, C07C 11/107
, B01J 31/22
C07C2/32
, C07C2/24
, C07C11/107
, B01J31/22 Z
4G169AA06
, 4G169BA27A
, 4G169BA27B
, 4G169BC16A
, 4G169BC16B
, 4G169BC49A
, 4G169BC50A
, 4G169BC50B
, 4G169BD01A
, 4G169BD03A
, 4G169BD03B
, 4G169BD04A
, 4G169BD05A
, 4G169BD05B
, 4G169BE01A
, 4G169BE01B
, 4G169BE13B
, 4G169BE32A
, 4G169BE32B
, 4G169BE34B
, 4G169BE35A
, 4G169BE35B
, 4G169BE36A
, 4G169BE36B
, 4G169BE37A
, 4G169BE37B
, 4G169BE45A
, 4G169BE46B
, 4G169CB47
, 4H006AA02
, 4H006AC21
, 4H006BA09
, 4H006BA10
, 4H006BA32
, 4H006BA33
, 4H006BA37
, 4H006BA44
, 4H006BA81
, 4H039CA29
, 4H039CL19
, 4H049VN01
, 4H049VN05
, 4H049VP02
, 4H049VQ07
, 4H049VQ83
, 4H049VR21
, 4H049VR24
, 4H049VR33
, 4H049VU33
, 4H050AA03
, 4H050AB40
