特許
J-GLOBAL ID:201203077646659128

表面評価装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 矢野 寿一郎 ,  正津 秀明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-240169
公開番号(公開出願番号):特開2012-093200
出願日: 2010年10月26日
公開日(公表日): 2012年05月17日
要約:
【課題】ワーク表面等の微小凹凸の密集度合を定量的に評価することができる表面評価装置を提供する。【解決手段】シリンダボア2表面の凹凸データに基づいてシリンダボア2表面を評価する表面評価装置20において、前記シリンダボア2表面の凹凸データをフーリエ変換して周波数スペクトルを求める手段と、前記周波数スペクトルから所定のしきい値に基づいて周波数成分を抽出する手段と、前記抽出された周波数成分を逆フーリエ変換して凹凸データに復元する手段と、前記復元された凹凸データから所定のしきい値に基づいて凹凸座標データを抽出する手段と、前記凹凸座標データより座標の数と座標値の分散を求める手段と、前記座標値の分散よりシリンダボア2表面品質を評価する手段と、を有する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ワーク表面の凹凸データに基づいてワーク表面を評価する表面評価装置において、 前記ワーク表面の凹凸データをフーリエ変換して周波数スペクトルを求める手段と、 前記周波数スペクトルから所定のしきい値に基づいて周波数成分を抽出する手段と、 前記抽出された周波数成分を逆フーリエ変換して凹凸データに復元する手段と、 前記復元された凹凸データから所定のしきい値に基づいて凹凸座標データを抽出する手段と、 前記凹凸座標データより座標の数と座標値の分散を求める手段と、 前記座標値の分散よりワーク表面品質を評価する手段と、 を有することを特徴とする表面評価装置。
IPC (3件):
G01B 11/30 ,  G01N 21/954 ,  G01N 21/88
FI (3件):
G01B11/30 102Z ,  G01N21/954 Z ,  G01N21/88 J
Fターム (36件):
2F065AA50 ,  2F065AA60 ,  2F065BB08 ,  2F065CC11 ,  2F065FF04 ,  2F065FF41 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065MM07 ,  2F065MM08 ,  2F065PP02 ,  2F065PP05 ,  2F065QQ08 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ33 ,  2F065QQ41 ,  2F065QQ44 ,  2F065RR08 ,  2F065SS04 ,  2F065SS13 ,  2F065UU05 ,  2G051AA90 ,  2G051AB07 ,  2G051AC04 ,  2G051CA03 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051CC01 ,  2G051CD04 ,  2G051CD05 ,  2G051EA12 ,  2G051EC10

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