特許

J-GLOBAL ID：201203079773379587

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： 市川 幸司 ,  安江 崇裕
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-033538
公開番号（公開出願番号）：特開2012-190004
出願日： 2012年02月20日
公開日（公表日）： 2012年10月04日
要約：

【課題】優れたラインエッジラフネスを有し、かつ欠陥が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】(A1)式(I)で表される構造単位を有する樹脂、(A2)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、(B)酸発生剤及び(D)式(II)で表される化合物を含有するレジスト組成物。[式中、R1は、水素原子又はメチル基;A1はアルカンジイル基;R2は、フッ素原子を有する炭化水素基;R3及びR4は、それぞれ独立に、炭化水素基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子;m’及びn’は、それぞれ独立に、0〜4の整数を表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A1)式(I)で表される構造単位を有する樹脂、 (A2)アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、 (B)酸発生剤及び、 (D)式(II)で表される化合物を含有するレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C08F 20/28 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/004 503Z ,  G03F7/039 601 ,  C08F20/28 ,  H01L21/30 502R

Fターム (47件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF27P ,  2H125AF38P ,  2H125AF41P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH04 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM22P ,  2H125AM99P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125BA02P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100BA03T ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BC04S ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09T ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100DA01 ,  4J100JA38