特許
J-GLOBAL ID:201203081052808970
溶質の濃縮及び位置特定のための装置並びに溶質の濃縮及び位置特定を行う方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
鮫島 睦
, 田村 恭生
, 言上 惠一
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-524508
公開番号(公開出願番号):特表2012-500992
出願日: 2009年08月28日
公開日(公表日): 2012年01月12日
要約:
溶質の濃縮及び位置特定のための装置(1)であって、基板(2)と、該基板(2)から垂直に突出する複数のプリズムリソグラフィー微細構造体(4)と、を有する。微細構造体(4)は、基板(2)が超疎水性となるように周期的に互いに離間されている。
請求項(抜粋):
溶質の濃縮及び位置特定のための装置(1)であって、
基板(2)と、
上記基板(2)から垂直に突出し、上記基板(2)が超疎水性となるように周期的に互いに離間して配置された複数のプリズムリソグラフィー微細構造体(4)と、
を備える装置(1)。
IPC (7件):
G01N 21/01
, G01N 21/27
, G01N 21/64
, G01N 21/65
, B82Y 20/00
, B82Y 15/00
, B82Y 40/00
FI (7件):
G01N21/01 B
, G01N21/27 B
, G01N21/64 E
, G01N21/65
, B82Y20/00
, B82Y15/00
, B82Y40/00
Fターム (21件):
2G043AA03
, 2G043CA04
, 2G043DA06
, 2G043EA01
, 2G043EA03
, 2G043FA01
, 2G043FA02
, 2G043JA04
, 2G043KA09
, 2G059AA05
, 2G059BB04
, 2G059CC20
, 2G059DD04
, 2G059DD13
, 2G059EE03
, 2G059EE07
, 2G059EE12
, 2G059FF01
, 2G059FF03
, 2G059GG01
, 2G059JJ05
引用特許:
引用文献:
審査官引用 (2件)
-
SOFT MATTER, 2008, VOL.4,NO.8, p224-240
-
LANGMIUR, 20051122, VOL.21, 11053-11060
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