特許
J-GLOBAL ID:201203081545292077
パターン形成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
小島 隆司
, 重松 沙織
, 小林 克成
, 石川 武史
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-254760
公開番号(公開出願番号):特開2012-108182
出願日: 2010年11月15日
公開日(公表日): 2012年06月07日
要約:
【解決手段】ナフタレン、フルオレン、フルオレノン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、アントラキノン、キサントン、チオキサントン、ベンゾクマリン、フェナレン-1-オン、アセナフテンから選ばれる芳香族基含有繰り返し単位を有し、酸によりアルカリに溶解する高分子化合物を含む第1のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して第1のレジスト膜を形成する工程と第1のレジスト膜上にアルキルアルコールを溶剤とする第2のポジ型レジスト材料を塗布して第2のレジスト膜を形成する工程と高エネルギー線で露光、ベーク後現像液を用いて前記第1,2のレジスト膜を同時に現像してレジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。【効果】第2層のレジスト膜を第1層レジスト膜と組み合わせることにより第2層のレジスト膜単独の場合よりも現像後のレジストパターンをマスクにして基板をエッチング加工したりイオンを打ち込んだりするときの耐性を高くできる。【選択図】なし
請求項(抜粋):
ナフタレン、フルオレン、フルオレノン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、アントラキノン、キサントン、チオキサントン、ベンゾクマリン、フェナレン-1-オン、アセナフテンから選ばれる1種以上の芳香族基を有する繰り返し単位を全繰り返し単位の10モル%以上100モル%以下の範囲で有し、かつ酸によってアルカリに溶解する高分子化合物を含む第1のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して、第1のレジスト膜を形成する工程と、第1のレジスト膜上に第1のレジスト膜を溶解させない炭素数3〜8のアルキルアルコールを溶剤とする第2のポジ型レジスト材料を塗布して、第2のレジスト膜を形成する工程と、高エネルギー線で露光し、ベーク(PEB)後、現像液を用いて前記第1と第2のレジスト膜を同時に現像してレジストパターンを形成する工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。
IPC (6件):
G03F 7/095
, G03F 7/039
, G03F 7/004
, G03F 7/40
, G03F 7/26
, H01L 21/027
FI (7件):
G03F7/095
, G03F7/039 601
, G03F7/004 501
, G03F7/40 521
, G03F7/26 511
, H01L21/30 502R
, H01L21/30 573
Fターム (77件):
2H096AA25
, 2H096BA11
, 2H096EA03
, 2H096EA05
, 2H096EA23
, 2H096FA01
, 2H096GA08
, 2H096HA23
, 2H096HA30
, 2H096JA02
, 2H096JA03
, 2H096JA04
, 2H096KA03
, 2H096KA06
, 2H125AF17P
, 2H125AF18P
, 2H125AF34P
, 2H125AF36P
, 2H125AF38P
, 2H125AF55P
, 2H125AF70P
, 2H125AH05
, 2H125AH08
, 2H125AH11
, 2H125AH12
, 2H125AH14
, 2H125AH15
, 2H125AH16
, 2H125AH19
, 2H125AH22
, 2H125AH23
, 2H125AH24
, 2H125AH25
, 2H125AJ04X
, 2H125AJ12X
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ14Y
, 2H125AJ18X
, 2H125AJ43Y
, 2H125AJ44Y
, 2H125AJ47Y
, 2H125AJ48X
, 2H125AJ48Y
, 2H125AJ52X
, 2H125AJ64X
, 2H125AJ64Y
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ65Y
, 2H125AJ69X
, 2H125AJ87Y
, 2H125AL11
, 2H125AN11P
, 2H125AN31P
, 2H125AN39P
, 2H125AN42P
, 2H125AN57P
, 2H125AN62P
, 2H125AN88P
, 2H125BA26P
, 2H125BA32P
, 2H125CA12
, 2H125CB08
, 2H125CC03
, 2H125CC20
, 2H125CD22P
, 2H125CD31
, 2H125DA12
, 5F046JA01
, 5F046NA05
, 5F046NA12
, 5F046NA13
, 5F046PA08
, 5F146JA01
, 5F146NA05
, 5F146NA12
, 5F146NA13
, 5F146PA08
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