特許

J-GLOBAL ID：201203082723958838

光酸発生剤材料、フォトリソグラフィー材料及びこれを用いたパターン膜の製造方法。

発明者： 高原 茂
出願人/特許権者： 国立大学法人 千葉大学
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2009065761
公開番号（公開出願番号）：WO2010-029948
出願日： 2009年09月09日
公開日（公表日）： 2010年03月18日
要約：

【課題】光吸収が適度に小さく光酸発生効率が高い光酸発生剤、これを用いた光酸発生材料及びフォトリソグラフィー材料、及びこれを用いたパターン膜の製造方法を提供すること。【解決手段】脂環構造を有するオキシム系光酸発生剤を含む光酸発生材料とする。この場合において、オキシム系光酸発生剤は、アダマンタン骨格を有することが好ましく、より具体的には下記式で示される化合物であることが好ましい。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

脂環構造を有するオキシム系光酸発生剤を含む光酸発生材料。

IPC (3件)：

C09K 3/00 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

C09K3/00 K ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R

Fターム (4件)：

2H125AF52P ,  4H006AA03 ,  4H006AB40 ,  4H006AB92