特許

J-GLOBAL ID：201203082890494630

載置台構造及び処理装置

発明者： 長岡 秀樹
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-163660
公開番号（公開出願番号）：特開2012-028428
出願日： 2010年07月21日
公開日（公表日）： 2012年02月09日
要約：

【課題】載置台からの輻射熱を遮断することにより支柱構造の下端部の温度上昇を抑制することが可能な載置台構造を提供する。【解決手段】排気が可能になされた処理容器22内に設けられて処理すべき被処理体Wを載置するための載置台構造54において、被処理体を載置して支持すると共に被処理体を加熱する加熱手段74が設けられた載置台58と、処理容器の底部側より起立させて設けられて上端部が載置台の下面に連結された支柱構造60と、支柱構造の下端部を処理容器の底部に固定する固定部62と、支柱構造の外側に、その高さ方向に沿って分散させて設けられた複数の遮熱板64を有する遮熱構造66とを備える。これにより、載置台からの輻射熱を遮断する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

排気が可能になされた処理容器内に設けられて処理すべき被処理体を載置するための載置台構造において、 前記被処理体を載置して支持すると共に前記被処理体を加熱する加熱手段が設けられた載置台と、 前記処理容器の底部側より起立させて設けられて上端部が前記載置台の下面に連結された支柱構造と、 前記支柱構造の下端部を前記処理容器の底部に固定する固定部と、 前記支柱構造の外側に、その高さ方向に沿って分散させて設けられた複数の遮熱板を有する遮熱構造と、 を備えたことを特徴とする載置台構造。

IPC (4件)：

H01L 21/683 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  C23C 16/458

FI (4件)：

H01L21/68 N ,  H01L21/205 ,  H01L21/31 B ,  C23C16/458

Fターム (38件)：

4K030CA04 ,  4K030EA03 ,  4K030FA10 ,  4K030GA02 ,  4K030JA03 ,  4K030KA12 ,  4K030KA24 ,  4K030KA46 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031GA41 ,  5F031HA16 ,  5F031HA33 ,  5F031HA37 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031MA30 ,  5F031NA01 ,  5F031NA05 ,  5F031NA07 ,  5F031PA11 ,  5F045AA06 ,  5F045AD10 ,  5F045AD11 ,  5F045AD12 ,  5F045AE01 ,  5F045AF01 ,  5F045AF07 ,  5F045BB08 ,  5F045BB20 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045EF05 ,  5F045EK07 ,  5F045EK24 ,  5F045EM02