特許
J-GLOBAL ID：201203083019417666

プラズマエッチング用の電極板及びプラズマエッチング処理装置

発明者：
佐藤 直行

佐藤 直行 について

, 
長山 将之

長山 将之 について

, 
長久保 啓一

長久保 啓一 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (3件)： 萩原 康司 ,  金本 哲男 ,  亀谷 美明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-215315
公開番号（公開出願番号）：特開2012-069868
出願日： 2010年09月27日
公開日（公表日）： 2012年04月05日
要約：
【課題】電極板を貫通する複数タイプのガス穴の配置を最適化することが可能な、プラズマエッチング用の電極板を提供する。【解決手段】プラズマエッチング用の電極板160は、所定の厚みを有する円板状であり、同心円状の複数の異なる円周上には、電極板160の一方の面を垂直に貫通する複数のガス穴が形成され、電極板160を径方向に2以上の領域に分けた各領域に異なるタイプのガス穴が形成されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
所定の厚みを有する円板状のプラズマエッチング用の電極板であって、 同心円状の複数の異なる円周上には、前記電極板の一方の面を垂直に貫通する複数のガス穴が形成され、 前記電極板を径方向に2以上の領域に分けた各領域に異なるタイプのガス穴が形成され、前記異なるタイプのガス穴は、屈曲したタイプのガス穴を含むことを特徴とするプラズマエッチング用の電極板。
IPC (2件)：
H01L 21/306 ,  H05H 1/46
FI (3件)：
H01L21/302 101L ,  H01L21/302 101G ,  H05H1/46 M
Fターム (8件)：
5F004BA09 ,  5F004BB13 ,  5F004BB14 ,  5F004BB28 ,  5F004BC03 ,  5F004DA00 ,  5F004DA23 ,  5F004DA26
引用特許：
審査官引用 (5件)
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