特許
J-GLOBAL ID：201203083886338914

基板処理装置

発明者：
菅原 栄一

菅原 栄一 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-079859
公開番号（公開出願番号）：特開2012-216614
出願日： 2011年03月31日
公開日（公表日）： 2012年11月08日
要約：
【課題】真空処理室に設けられる基板載置台の表面部の状態の確認や当該表面部の交換を行うことによる真空処理の停止時間を短くすると共に、前記表面部の状態を精度高く管理すること。【解決手段】基板が搬送される常圧雰囲気の常圧搬送室と、常圧搬送室とロードロック室を介して接続される真空処理室と、前記真空処理室に設けられ、本体部と、当該本体部に対して着脱自在な表面部とを有する基板載置台と、前記ロードロック室または常圧搬送室に設けられ、前記表面部を収納するための保管部と、常圧搬送室からロードロック室を介して真空処理室へ基板を搬送し、また前記保管部と前記真空処理室の本体部との間で前記表面部を搬送するための搬送機構と、を備えるように基板処理装置を構成する。これによって真空処理室の大気開放を防ぐと共に表面部の状態の確認が容易になるので当該表面部を精度高く管理することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板が搬送される常圧雰囲気の常圧搬送室と、 この常圧搬送室とロードロック室を介して接続され、基板に対して真空処理を行う真空処理室と、 前記真空処理室に設けられ、本体部と、当該本体部に対して着脱自在な表面部とを有する基板載置台と、 前記ロードロック室または常圧搬送室に設けられ、前記表面部を収納するための保管部と、 常圧搬送室からロードロック室を介して真空処理室へ基板を搬送し、また前記保管部と前記真空処理室の本体部との間で前記表面部を搬送するための搬送機構と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (7件)：
H01L 21/677 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  C23C 16/458 ,  H01L 21/683 ,  B65G 49/07
FI (7件)：
H01L21/68 A ,  H01L21/302 101G ,  H01L21/205 ,  H01L21/31 C ,  C23C16/458 ,  H01L21/68 R ,  B65G49/07 C
Fターム (65件)：
4K030FA03 ,  4K030GA02 ,  4K030GA12 ,  4K030GA13 ,  4K030KA12 ,  4K030KA39 ,  4K030LA15 ,  5F004AA15 ,  5F004AA16 ,  5F004BA09 ,  5F004BB18 ,  5F004BB22 ,  5F004BB23 ,  5F004BC05 ,  5F004BC06 ,  5F004BD04 ,  5F004CA06 ,  5F004DA26 ,  5F031CA02 ,  5F031DA01 ,  5F031DA17 ,  5F031FA01 ,  5F031FA05 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA02 ,  5F031GA45 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031GA50 ,  5F031HA02 ,  5F031HA13 ,  5F031HA17 ,  5F031HA33 ,  5F031HA37 ,  5F031HA39 ,  5F031HA59 ,  5F031JA05 ,  5F031JA15 ,  5F031JA28 ,  5F031JA29 ,  5F031JA36 ,  5F031KA08 ,  5F031KA11 ,  5F031KA12 ,  5F031MA03 ,  5F031MA06 ,  5F031MA09 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031MA32 ,  5F031NA05 ,  5F031NA07 ,  5F031PA07 ,  5F045AA08 ,  5F045DP03 ,  5F045EB06 ,  5F045EF05 ,  5F045EH13 ,  5F045EH20 ,  5F045EJ10 ,  5F045EM05
引用特許：
審査官引用 (3件)

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