特許
J-GLOBAL ID:201203084665548007
高温で化学反応を連続的に行うための装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
江崎 光史
, 鍛冶澤 實
, 上西 克礼
, 虎山 一郎
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-518031
公開番号(公開出願番号):特表2012-531304
出願日: 2010年06月09日
公開日(公表日): 2012年12月10日
要約:
本発明の対象は、マイクロ波発生器、内部にマイクロ波透過性管があるマイクロ波アプリケータ、及び等温反応区域を含む、化学反応を連続的に行うための装置であって、前記マイクロ波透過性管内の反応物が、加熱ゾーンとして機能するマイクロ波アプリケータ中を通って誘導され、前記マイクロ波アプリケータ中では、マイクロ波発生器から前記マイクロ波アプリケータへ誘導されるマイクロ波を使って、該反応物が反応温度まで加熱され、そして加熱され、そして場合によっては圧力下にある該反応物が、前記加熱ゾーンから出た直後に前記加熱ゾーンに直接つながる等温反応区域中に移され、そしてその等温反応区域から出た後に冷却されるように、前記マイクロ波発生器、前記マイクロ波アプリケータ、及び前記等温反応区域が配置されている装置である。
請求項(抜粋):
マイクロ波発生器、内部にマイクロ波透過性管があるマイクロ波アプリケータ、及び等温反応区域を含む、化学反応を連続的に行うための装置であって、前記マイクロ波透過性管内の反応物が、加熱ゾーンとして機能するマイクロ波アプリケータ中を通って誘導され、前記マイクロ波アプリケータ中では、マイクロ波発生器から前記マイクロ波アプリケータへ誘導されるマイクロ波を使って、該反応物が反応温度まで加熱され、そして加熱され、そして場合によっては圧力下にある該反応物が、前記加熱ゾーンから出た直後に前記加熱ゾーンに直接つながる等温反応区域中に移され、そしてその等温反応区域から出た後に冷却されるように、前記マイクロ波発生器、前記マイクロ波アプリケータ、及び前記等温反応区域が配置されている、上記の装置。
IPC (8件):
B01J 19/12
, C07C 231/02
, C07C 233/35
, C07C 233/04
, C07C 67/03
, C07C 69/22
, H05B 6/70
, H05B 6/74
FI (8件):
B01J19/12 A
, C07C231/02
, C07C233/35
, C07C233/04
, C07C67/03
, C07C69/22
, H05B6/70 E
, H05B6/74 E
Fターム (25件):
3K090AA02
, 3K090AA20
, 3K090AB20
, 3K090BB01
, 3K090CA01
, 4G075AA13
, 4G075AA62
, 4G075AA63
, 4G075BA10
, 4G075CA02
, 4G075CA03
, 4G075CA26
, 4G075DA02
, 4G075DA18
, 4G075EA05
, 4G075EB21
, 4G075EB25
, 4G075EB31
, 4G075FC06
, 4H006AA02
, 4H006AC48
, 4H006AC53
, 4H006BA95
, 4H006BD81
, 4H006BD84
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開平1-133910
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マイクロ波加熱装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-141079
出願人:株式会社IDX, 独立行政法人産業技術総合研究所
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化学反応炉
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-415580
出願人:大学共同利用機関法人自然科学研究機構, 財団法人大阪産業振興機構, 日本スピンドル製造株式会社
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