特許
J-GLOBAL ID:201203084665548007

高温で化学反応を連続的に行うための装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 江崎 光史 ,  鍛冶澤 實 ,  上西 克礼 ,  虎山 一郎
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-518031
公開番号(公開出願番号):特表2012-531304
出願日: 2010年06月09日
公開日(公表日): 2012年12月10日
要約:
本発明の対象は、マイクロ波発生器、内部にマイクロ波透過性管があるマイクロ波アプリケータ、及び等温反応区域を含む、化学反応を連続的に行うための装置であって、前記マイクロ波透過性管内の反応物が、加熱ゾーンとして機能するマイクロ波アプリケータ中を通って誘導され、前記マイクロ波アプリケータ中では、マイクロ波発生器から前記マイクロ波アプリケータへ誘導されるマイクロ波を使って、該反応物が反応温度まで加熱され、そして加熱され、そして場合によっては圧力下にある該反応物が、前記加熱ゾーンから出た直後に前記加熱ゾーンに直接つながる等温反応区域中に移され、そしてその等温反応区域から出た後に冷却されるように、前記マイクロ波発生器、前記マイクロ波アプリケータ、及び前記等温反応区域が配置されている装置である。
請求項(抜粋):
マイクロ波発生器、内部にマイクロ波透過性管があるマイクロ波アプリケータ、及び等温反応区域を含む、化学反応を連続的に行うための装置であって、前記マイクロ波透過性管内の反応物が、加熱ゾーンとして機能するマイクロ波アプリケータ中を通って誘導され、前記マイクロ波アプリケータ中では、マイクロ波発生器から前記マイクロ波アプリケータへ誘導されるマイクロ波を使って、該反応物が反応温度まで加熱され、そして加熱され、そして場合によっては圧力下にある該反応物が、前記加熱ゾーンから出た直後に前記加熱ゾーンに直接つながる等温反応区域中に移され、そしてその等温反応区域から出た後に冷却されるように、前記マイクロ波発生器、前記マイクロ波アプリケータ、及び前記等温反応区域が配置されている、上記の装置。
IPC (8件):
B01J 19/12 ,  C07C 231/02 ,  C07C 233/35 ,  C07C 233/04 ,  C07C 67/03 ,  C07C 69/22 ,  H05B 6/70 ,  H05B 6/74
FI (8件):
B01J19/12 A ,  C07C231/02 ,  C07C233/35 ,  C07C233/04 ,  C07C67/03 ,  C07C69/22 ,  H05B6/70 E ,  H05B6/74 E
Fターム (25件):
3K090AA02 ,  3K090AA20 ,  3K090AB20 ,  3K090BB01 ,  3K090CA01 ,  4G075AA13 ,  4G075AA62 ,  4G075AA63 ,  4G075BA10 ,  4G075CA02 ,  4G075CA03 ,  4G075CA26 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EA05 ,  4G075EB21 ,  4G075EB25 ,  4G075EB31 ,  4G075FC06 ,  4H006AA02 ,  4H006AC48 ,  4H006AC53 ,  4H006BA95 ,  4H006BD81 ,  4H006BD84
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開平1-133910
  • マイクロ波加熱装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2004-141079   出願人:株式会社IDX, 独立行政法人産業技術総合研究所
  • 化学反応炉
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2003-415580   出願人:大学共同利用機関法人自然科学研究機構, 財団法人大阪産業振興機構, 日本スピンドル製造株式会社
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