特許
J-GLOBAL ID:201203085727042756
デジタル製造システム用の支持材
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
名古屋国際特許業務法人
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-532164
公開番号(公開出願番号):特表2012-509777
出願日: 2009年10月12日
公開日(公表日): 2012年04月26日
要約:
第1のコポリマーとポリマー衝撃改質剤とを含む支持材の原料(36)において、第1のコポリマーがカルボキシル基を含む第1のモノマー単位およびフェニル基を含む第2のモノマー単位を含む支持材の原料。
請求項(抜粋):
デジタル製造システムと共に使用するための支持材の原料において、
-・ カルボキシル基を含む第1のモノマー単位と;
・ フェニル基を含む第2のモノマー単位と;
を含む第1のコポリマーと、
- ポリマー衝撃改質剤と、
を含む支持材の原料。
IPC (5件):
B29C 67/00
, C08L 33/02
, C08L 33/08
, C08L 25/08
, C08L 63/10
FI (5件):
B29C67/00
, C08L33/02
, C08L33/08
, C08L25/08
, C08L63/10
Fターム (13件):
4F213AA13
, 4F213AA21
, 4F213WA25
, 4F213WB01
, 4F213WL15
, 4F213WL34
, 4F213WL56
, 4F213WL62
, 4F213WL74
, 4J002BG04W
, 4J002BG07W
, 4J002BG10W
, 4J002CD19X
引用特許:
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