特許

J-GLOBAL ID：201203085750100941

グラフェンシート系材料の形成方法およびグラフェンシート系材料

発明者： 浅野 高治 ,  原田 直樹
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 横山 淳一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-177851
公開番号（公開出願番号）：特開2012-036040
出願日： 2010年08月06日
公開日（公表日）： 2012年02月23日
要約：

【課題】 グラフェンシート層内を所望の化学構造とすることによって、所望の電気的性質を有するグラフェンシート系材料の形成が容易な処理技術を提供する。【解決手段】 グラフェンシート系材料の表面に、電子供与性を有する官能基を発生する特定物質が含まれる雰囲気中で紫外線を照射することにより該特定物質を活性化し、グラフェンシート系材料に含まれるグラフェンシートの端部を電子供与性の官能基で修飾する工程を含むことを特徴とするグラフェンシート系材料の処理方法に関する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

グラフェンシート系材料の表面において、 電子供与性を有する官能基を発生する特定物質が含まれる雰囲気中で紫外線を照射することにより該特定物質を活性化する工程と、 活性化された前記電子供与性の官能基で前記グラフェンシート系材料に含まれるグラフェンシートの端部を化学修飾または物理修飾する工程と、 を有することを特徴とするグラフェンシート系材料の形成方法。

IPC (1件)：

C01B 31/02

FI (1件)：

C01B31/02 101Z

Fターム (7件)：

4G146AA01 ,  4G146AB07 ,  4G146AD30 ,  4G146CB11 ,  4G146CB16 ,  4G146CB22 ,  4G146CB35