特許
J-GLOBAL ID:201203088137994190
インプリント装置及び物品の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
, 下山 治
, 永川 行光
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-226060
公開番号(公開出願番号):特開2012-080015
出願日: 2010年10月05日
公開日(公表日): 2012年04月19日
要約:
【課題】 空気と置換するためのガスの供給量を必要最小限に低減したインプリント装置を提供する。【解決手段】 インプリント装置は、テンプレートを保持する保持部と、基板を保持するステージと、前記テンプレートを囲むように配置された複数のガス供給開口を介して前記テンプレートと前記基板との間の空間に空気と置換するためのガスを供給するガス供給部と、前記複数のガス供給開口を囲むように前記保持部の前記ステージ側の表面に形成された第1ガス回収開口を介して前記ガスを回収する第1ガス回収部と、前記基板を囲むように前記ステージに形成された第2ガス回収開口から前記ガスを回収する第2ガス回収部と、前記第1ガス回収開口により囲まれる第1領域と、前記第2ガス回収開口により囲まれる第2領域とが重なり合う第3領域が形成される場合に、前記複数のガス供給開口のうち前記第3領域内に位置するガス供給開口のみから前記ガスを供給するように前記ガス供給部を制御する制御部と、を備える。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
基板に塗布された樹脂とパターン面を有するテンプレートとを接触させて前記樹脂を硬化させることによりパターンを形成するインプリント処理を行うインプリント装置であって、
テンプレートを保持する保持部と、
基板を保持するステージと、
前記テンプレートを囲むように配置された複数のガス供給開口を介して前記テンプレートと前記基板との間の空間に空気と置換するためのガスを供給するガス供給部と、
前記複数のガス供給開口を囲むように前記保持部の前記ステージ側の表面に形成された第1ガス回収開口を介して前記ガスを回収する第1ガス回収部と、
前記基板を囲むように前記ステージに形成された第2ガス回収開口から前記ガスを回収する第2ガス回収部と、
前記第1ガス回収開口により囲まれる第1領域と、前記第2ガス回収開口により囲まれる第2領域とが重なり合う第3領域が形成される場合に、前記複数のガス供給開口のうち前記第3領域内に位置するガス供給開口のみから前記ガスを供給するように前記ガス供給部を制御する制御部と、
を備える、ことを特徴とするインプリント装置。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L21/30 502D
, B29C59/02 Z
Fターム (10件):
4F209AM25
, 4F209AM30
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PN07
, 4F209PN13
, 4F209PQ11
, 4F209PQ20
, 5F046AA28
, 5F146AA28
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