多成分過酸発生システム

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：結田純次 , 竹林則幸
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-530225
公開番号（公開出願番号）：特表2012-504418
出願日： 2009年10月01日
公開日（公表日）： 2012年02月23日
要約：

例えば、消毒剤および/または漂白用途での使用に好適なペルオキシカルボン酸の水性調合物を酵素的に生成するための多成分ペルオキシカルボン酸発生システムが本明細書に開示される。多成分ペルオキシカルボン酸発生システムは、過加水分解活性を有する少なくとも1つの炭水化物エステラーゼ族7酵素を含む。

請求項（抜粋）：

第1の成分を含む第1のコンパートメントおよび第2の成分を含む第2のコンパートメントと、第1の成分および第2の成分を混合して過酢酸の水性調合物を生成させるための手段とを含む多成分ペルオキシカルボン酸発生システムであって、第1の成分が、 (i)(a)ペルヒドロリシス活性を有する少なくとも1つの酵素触媒であって、該酵素触媒がCLUSTALWを用いて配列番号1と整列させる炭水化物エステラーゼ族7(CE-7)シグネチャーモチーフを有する酵素を含み、該シグネチャーモチーフが、 (1)配列番号1の118〜120と整列させるアミノ酸位置でRGQモチーフ; (2)配列番号1の179〜183と整列させるアミノ酸位置でGXSQGモチーフ;および (3)配列番号1の298〜299と整列させるアミノ酸位置でHEモチーフを含み; 該酵素が配列番号1と少なくとも30%のアミノ酸同一性を含む、上記酵素触媒;および (b)少なくとも1つの賦形剤の調合物を含む酵素粉末; (ii)(a)構造 [X]mR5 (式中、 Xは、式R6C(O)Oのエステル基であり; R6は、任意選択的に、ヒドロキシル基またはC1〜C4アルコキシ基で置換される、C1〜C7の線状、分岐または環式ヒドロカルビル部分であり、ここで、R6は、任意選択的に、R6がC2〜C7である場合に1つまたはそれ以上のエーテル結合を含み; R5は、任意選択的に、ヒドロキシル基で置換されるC1〜C6の線状、分岐または環式ヒドロカルビル部分であり、ここで、R5中の各炭素原子はそれぞれ、1つより多くないヒドロキシル基または1つより多くないエステル基を含み、そしてここで、R5は任意選択的に1つまたはそれ以上のエーテル結合を含み; mは、1からR5中の炭素原子の数までである) を有する1つまたはそれ以上のエステルであって、 25°Cで少なくとも5ppmの水への溶解度を有する1つまたはそれ以上のエステル; (b)構造

IPC (13件)：

C12N 9/18 , C11D 7/42 , C11D 7/26 , C11D 7/08 , C11D 7/36 , C11D 7/50 , C11D 7/18 , C11D 7/54 , C11D 3/395 , C11D 3/386 , C11D 3/20 , C11D 3/39 , A61L 2/18

FI (13件)：

C12N9/18 , C11D7/42 , C11D7/26 , C11D7/08 , C11D7/36 , C11D7/50 , C11D7/18 , C11D7/54 , C11D3/395 , C11D3/386 , C11D3/20 , C11D3/39 , A61L2/18

Fターム (31件)：

4B050CC03 , 4B050CC05 , 4B050CC07 , 4B050DD02 , 4C058AA03 , 4C058AA05 , 4C058BB07 , 4C058CC06 , 4C058CC08 , 4C058JJ08 , 4C058JJ21 , 4H003AC12 , 4H003BA21 , 4H003DA01 , 4H003EA04 , 4H003EA16 , 4H003EB07 , 4H003EB08 , 4H003EB09 , 4H003EB23 , 4H003EC03 , 4H003ED02 , 4H003ED28 , 4H003ED29 , 4H003ED32 , 4H003EE04 , 4H003EE11 , 4H003FA27 , 4H003FA29 , 4H003FA34 , 4H003FA42

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