特許

J-GLOBAL ID：201203089642925565

水素含有水の製造方法

発明者： 小池 吉昭
出願人/特許権者： 小池 吉昭
代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-207416
公開番号（公開出願番号）：特開2012-061418
出願日： 2010年09月16日
公開日（公表日）： 2012年03月29日
要約：

【課題】自然放置しても水中の水素が散逸して経時的に水素濃度が低下しにくい水素含有水を提供する。【解決手段】水素含有水の製造方法。(1)ヒドロキシアパタイトの酸性水溶液を製造する工程、(2)工程(1)で製造した酸性水溶液とアルカリ水溶液を混合して、pHが5〜8の範囲である分散液を製造する工程、(3)工程(2)で製造した分散液において水の電気分解を行うことで水素含有水を得る工程を含む。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(1)カルシウムおよびマグネシウムの少なくもと一方のリン酸塩の酸性水溶液を製造する工程、 (2)工程(1)で製造した酸性水溶液とアルカリ水溶液を混合して、pHが5〜8の範囲である分散液を製造する工程、 (3)工程(2)で製造した分散液において水の電気分解を行うことで水素含有水を得る工程、 を含む水素含有水の製造方法。

IPC (1件)：

C02F 1/46

FI (1件)：

C02F1/46 Z

Fターム (27件)：

4C086AA04 ,  4C086HA01 ,  4C086HA23 ,  4C086ZB26 ,  4D061DA03 ,  4D061DA10 ,  4D061DB09 ,  4D061DB20 ,  4D061EA02 ,  4D061EB04 ,  4D061EB29 ,  4D061EB30 ,  4D061EB37 ,  4D061EB39 ,  4D061ED20 ,  4D061FA01 ,  4D061FA11 ,  4D061FA20 ,  4D061GA20 ,  4D061GC11 ,  4D061GC18 ,  4K021AA01 ,  4K021BA02 ,  4K021BA17 ,  4K021BB02 ,  4K021BC07 ,  4K021DC03

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 活性水素含有水の製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-177475   出願人：株式会社サンワーク