特許

J-GLOBAL ID：201203089901792358

研磨液及び研磨方法

発明者： 宮谷 克明
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
代理人 (3件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2009066810
公開番号（公開出願番号）：WO2010-038706
出願日： 2009年09月28日
公開日（公表日）： 2010年04月08日
要約：

本発明は、平均粒子径が40nm以上であるコロイダルシリカ、水、およびζ電位調整成分を含有する研磨液であって、(1)ζ電位調整成分が、硝酸ナトリウムおよび硫酸ナトリウムからなる群から選ばれる少なくとも1つのナトリウム塩からなるものであり、pHが8以上である研磨液、もしくは(2)ζ電位調整成分が、水溶性ポリエーテルポリアミンおよび水溶性ポリアルキレンポリアミンからなる群から選ばれる少なくとも1つの水溶性有機高分子と塩酸、硫酸、硝酸、亜硝酸、亜硫酸およびアミド硫酸からなる群から選ばれる少なくとも1つの酸とからなり、前記水溶性有機高分子に対し前記酸をモル比で0.6〜1.4の割合で含むものであり、pHが8以上である研磨液に関する。

請求項（抜粋）：

平均粒径が40nm以上であるコロイダルシリカ、 水、および ζ電位調整成分 を含有する研磨液であって、 ζ電位調整成分が、硝酸ナトリウムおよび硫酸ナトリウムからなる群から選ばれる少なくとも1つのナトリウム塩からなるものであり、pHが8以上である研磨液。

IPC (3件)：

B24B 37/00 ,  G11B 5/84 ,  C09K 3/14

FI (4件)：

B24B37/00 H ,  G11B5/84 A ,  C09K3/14 550D ,  C09K3/14 550Z

Fターム (12件)：

3C058AA07 ,  3C058CA01 ,  3C058CA06 ,  3C058CB03 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA17 ,  5D112AA02 ,  5D112BA03 ,  5D112GA09 ,  5D112GA14 ,  5D112GA30