特許

J-GLOBAL ID：201203090688543533

太陽電池の製造方法、太陽電池の製造装置及び太陽電池

発明者： 小山 博隆
出願人/特許権者： 芝浦メカトロニクス株式会社
代理人 (4件)： 日向寺 雅彦 ,  市川 浩 ,  本間 惣一 ,  日比野 幸信
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-084424
公開番号（公開出願番号）：特開2012-119343
出願日： 2009年03月31日
公開日（公表日）： 2012年06月21日
要約：

【課題】薄膜太陽電池及びそれを製造する製造装置の低コスト化、薄膜太陽電池の品質向上、薄膜太陽電池の発電効率の向上を図る。【解決手段】基板上に、第1の電極膜を減圧雰囲気下で形成し、その後、大気に曝すことなく、前記第1の電極膜上に、光電変換層を減圧雰囲気下で形成し、その後大気に曝すことなく、前記光電変換層上に、第2の電極膜を減圧雰囲気下で形成して、積層膜を形成する工程と、前記積層膜を分断して、前記基板上に併設された複数の太陽電池セルを形成する工程と、前記複数の太陽電池セルのうちの第1の太陽電池セルの前記第2の電極膜及び前記光電変換層を選択的に除去して、前記第1の電極膜を表出させ、前記第1の太陽電池セルに隣接する第2の太陽電池セルの前記第2の金属膜と、表出させた前記第1の電極膜と、を電気的に接続する製造方法が提供される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板上に、複数の太陽電池セルが直列に接続された太陽電池の製造方法であって、 前記基板上に、第1の電極膜を減圧雰囲気下で形成し、その後、大気に曝すことなく、前記第1の電極膜上に、光電変換層を減圧雰囲気下で形成し、その後大気に曝すことなく、前記光電変換層上に、第2の電極膜を減圧雰囲気下で形成して、積層膜を形成する工程と、 前記積層膜を分断して、前記基板上に併設された前記複数の太陽電池セルを形成する工程と、 前記複数の太陽電池セルのうちの第1の太陽電池セルの前記第2の電極膜及び前記光電変換層を選択的に除去して、前記第1の電極膜を表出させ、 前記第1の太陽電池セルに隣接する第2の太陽電池セルの前記第2の金属膜と、表出させた前記第1の電極膜と、を電気的に接続する工程と、 を備えたことを特徴とする太陽電池の製造方法。

IPC (1件)：

H01L 31/04

FI (1件)：

H01L31/04 S

Fターム (37件)：

5F051AA05 ,  5F051AA10 ,  5F051BA03 ,  5F051BA11 ,  5F051CA14 ,  5F051CA15 ,  5F051CB13 ,  5F051CB21 ,  5F051CB28 ,  5F051CB30 ,  5F051EA05 ,  5F051EA09 ,  5F051EA10 ,  5F051EA16 ,  5F051EA17 ,  5F051FA04 ,  5F051GA03 ,  5F051GA05 ,  5F151AA05 ,  5F151AA10 ,  5F151BA03 ,  5F151BA11 ,  5F151CA14 ,  5F151CA15 ,  5F151CB13 ,  5F151CB21 ,  5F151CB28 ,  5F151CB30 ,  5F151EA05 ,  5F151EA09 ,  5F151EA10 ,  5F151EA16 ,  5F151EA17 ,  5F151EA19 ,  5F151FA04 ,  5F151GA03 ,  5F151GA05