特許
J-GLOBAL ID:201203092390731810

触媒層形成用組成物、及び、触媒層の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-042865
公開番号(公開出願番号):特開2012-181961
出願日: 2011年02月28日
公開日(公表日): 2012年09月20日
要約:
【課題】低コストで高性能な電気化学デバイス用触媒層付電極の製造に好適な触媒層形成用組成物、及び、それを使用する触媒層の製造方法を提供する。【解決手段】電気化学デバイスの触媒層付電極の触媒層形成に用いられる触媒層形成用組成物であって、イオン伝導性の導入が可能なビニルモノマー、金属微粒子の前駆体である金属化合物、及び、炭素担体を含むものであり、前記ビニルモノマーは、放射線照射により重合して、イオン伝導性ポリマーを形成するものであり、前記金属化合物は、放射線照射により還元されて、金属微粒子を形成するものであることとする。【選択図】なし
請求項(抜粋):
電気化学デバイス用の触媒層付電極の触媒層形成に用いられる触媒層形成用組成物であって、イオン伝導性の導入が可能なビニルモノマー、金属微粒子の前駆体である金属化合物、及び、炭素担体を含むものであり、 前記ビニルモノマーは、放射線照射により重合して、イオン伝導性ポリマーを形成するものであり、 前記金属化合物は、放射線照射により還元されて、金属微粒子を形成するものであることを特徴とする触媒層形成用組成物。
IPC (8件):
H01M 4/88 ,  C25B 11/12 ,  H01M 4/86 ,  H01M 8/10 ,  H01M 8/02 ,  C25B 9/10 ,  C23C 18/14 ,  B01J 31/28
FI (8件):
H01M4/88 K ,  C25B11/12 ,  H01M4/86 B ,  H01M8/10 ,  H01M8/02 E ,  C25B11/20 ,  C23C18/14 ,  B01J31/28 M
Fターム (59件):
4G169AA08 ,  4G169BA08A ,  4G169BA08B ,  4G169BA21C ,  4G169BA22A ,  4G169BA22B ,  4G169BA36A ,  4G169BC75B ,  4G169BE17C ,  4G169BE22A ,  4G169BE22B ,  4G169BE22C ,  4G169BE34C ,  4G169BE37A ,  4G169BE37B ,  4G169BE37C ,  4G169CC32 ,  4G169FB80 ,  4K011AA01 ,  4K011AA23 ,  4K011AA29 ,  4K011AA30 ,  4K011AA48 ,  4K011AA65 ,  4K011AA68 ,  4K011BA04 ,  4K011BA07 ,  4K011BA08 ,  4K011BA11 ,  4K022AA01 ,  4K022AA32 ,  4K022AA43 ,  4K022BA02 ,  4K022BA03 ,  4K022BA06 ,  4K022BA07 ,  4K022BA09 ,  4K022BA11 ,  4K022BA12 ,  4K022BA14 ,  4K022BA17 ,  4K022BA18 ,  4K022BA28 ,  4K022BA31 ,  4K022BA32 ,  4K022BA34 ,  4K022DA08 ,  4K022DB01 ,  5H018AA06 ,  5H018BB12 ,  5H018BB16 ,  5H018BB17 ,  5H018DD06 ,  5H018EE05 ,  5H018EE16 ,  5H026AA06 ,  5H026BB01 ,  5H026BB02 ,  5H026CX04
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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