特許

J-GLOBAL ID：201203092549345266

シリカ膜前駆体組成物の製造方法及びシリカ膜

発明者： 平川 正明 ,  加賀美 剛 ,  山崎 貴久 ,  東條 一誠 ,  中山 高博
出願人/特許権者： 株式会社アルバック
代理人 (2件)： 栗原 浩之 ,  村中 克年
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-235977
公開番号（公開出願番号）：特開2012-087020
出願日： 2010年10月20日
公開日（公表日）： 2012年05月10日
要約：

【課題】酸素プラズマ耐性に優れたシリカ膜を形成することができ、且つ、安定性に優れたシリカ膜前駆体組成物の製造方法を提供する。【解決手段】アルコキシシランと溶媒と酸触媒を混合してアルコキシシランの加水分解反応及び縮重合反応を生じさせた後、前記アルコキシシランのアルコキシ基1モルに対し、0.005〜0.2モルのシリル化剤を添加して前記縮重合反応により生じたアルコキシシランの重合体の反応末端をシリル化する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

アルコキシシランと溶媒と酸触媒を混合してアルコキシシランの加水分解反応及び縮重合反応を生じさせた後、前記アルコキシシランのアルコキシ基1モルに対し、0.005〜0.2モルのシリル化剤を添加して前記縮重合反応により生じたアルコキシシランの重合体の反応末端をシリル化することを特徴とするシリカ膜前駆体組成物の製造方法。

IPC (1件)：

C01B 33/12

FI (1件)：

C01B33/12 C

Fターム (18件)：

4G072AA25 ,  4G072BB09 ,  4G072FF09 ,  4G072GG01 ,  4G072HH28 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ13 ,  4G072JJ16 ,  4G072JJ41 ,  4G072KK01 ,  4G072KK20 ,  4G072NN21 ,  4G072QQ20 ,  4G072RR05 ,  4G072RR25 ,  4G072TT17 ,  4G072TT30 ,  4G072UU01