酸発生剤用の塩及びレジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：中山亨 , 坂元徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-252601
公開番号（公開出願番号）：特開2012-072108
出願日： 2010年11月11日
公開日（公表日）： 2012年04月12日
要約：

【課題】優れたフォーカスマージンを有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。【解決手段】式(I)で表される塩。[Q1及びQ2はフッ素原子又はC1-6ペルフルオロアルキル基を表す。L1及びL2はC1-17アルキレン基を表し、該アルキレン基に含まれる-CH2-は-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。環W1はC3-36飽和炭化水素環を表す。R2は水酸基、C1-6アルキル基又はC1-6アルコキシ基を表す。環W2はC4-36飽和炭化水素環を表し、前記飽和炭化水素環に含まれる-CH2-は、-CO-又は-O-で置き換わっていてもよい。但し、前記飽和炭化水素環に含まれる-CH2-の少なくとも1つは-CO-に置き換わる。R3はC1-6アルキル基、C1-6アルコキシ基又はC1-6アルコキシカルボニル基を表す。Z+は、有機対イオンを表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で表される塩。

IPC (6件)：

C07C 309/17 , C07C 381/12 , C09K 3/00 , C07D 307/00 , G03F 7/039 , G03F 7/004

FI (6件)：

C07C309/17 , C07C381/12 , C09K3/00 K , C07D307/00 , G03F7/039 601 , G03F7/004 503A

Fターム (29件)：

2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF21P , 2H125AF26P , 2H125AF38P , 2H125AF70P , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AJ14X , 2H125AJ65X , 2H125AJ69X , 2H125AL01 , 2H125AL22 , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN45P , 2H125AN54P , 2H125AN65P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 4C037AA02 , 4H006AA01 , 4H006AB76 , 4H006AB92

引用特許：

審査官引用 (1件)

化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-215728 出願人：住友化学株式会社

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