特許

J-GLOBAL ID：201203093380624191

塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： 河村 麻貴 ,  吉田 勲
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-016572
公開番号（公開出願番号）：特開2012-153680
出願日： 2011年01月28日
公開日（公表日）： 2012年08月16日
要約：

【課題】優れた解像度を有するレジストパターンを得ることができる塩、酸発生剤及びレジスト組成物を提供する。【解決手段】式(I)で表される塩。[式中、R1〜R13、X1は、それぞれ特定の基を表す。またR4とR5、R5とR6、R6とR7、R6とR13、R7とR8、R8とR11、R11とR12又はR12とR13が環を形成してもよく、但し、R4〜R13の1つはX1との結合手;---は単結合又は二重結合;n1は1又は2、n2は0又は1;Z1+は、有機対イオンを表す。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で表される塩。

IPC (6件)：

C07D 493/04 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C07C 381/12 ,  C09K 3/00 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

C07D493/04 106C ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  C07C381/12 ,  C09K3/00 K ,  H01L21/30 502R

Fターム (33件)：

2H125AF17P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ48Y ,  2H125AJ69Y ,  2H125AN02P ,  2H125AN21P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125AN67P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB16 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4C071AA01 ,  4C071AA08 ,  4C071BB01 ,  4C071CC13 ,  4C071EE04 ,  4C071FF17 ,  4C071GG06 ,  4C071HH09 ,  4C071LL05 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB76 ,  4H006AB92