特許

J-GLOBAL ID：201203093408321777

研磨用組成物

発明者： 山▲崎▼ 智基
出願人/特許権者： ニッタ・ハース株式会社
代理人 (4件)： 上羽 秀敏 ,  松山 隆夫 ,  坂根 剛 ,  川上 桂子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-133249
公開番号（公開出願番号）：特開2011-258825
出願日： 2010年06月10日
公開日（公表日）： 2011年12月22日
要約：

【課題】シリコンの研磨速度を向上させる。【解決手段】研磨用組成物は、シリカ粒子と、NH2(CH2CH2NH)nH(nは2以上の整数)からなるポリエチレンアミンとを含む。シリカ粒子は、シリコンの研磨に用いられる粒子からなり、例えば、コロイダルシリカ、ヒュームドシリカ、およびコロイダルシリカとヒュームドシリカとの混合物のいずれかからなる。ポリエチレンアミンは、ジエチレントリアミン(NH2(CH2CH2NH)2H)、トリエチレンテトラミン(NH2(CH2CH2NH)3H)、テトラエチレンペンタミン(NH2(CH2CH2NH)4H)およびペンタエチレンヘキサミン(NH2(CH2CH2NH)5H)のいずれかからなる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

シリカ粒子と、 NH2(CH2CH2NH)nH(nは2以上の整数)からなるポリエチレンアミンとを含む研磨用組成物。

IPC (3件)：

H01L 21/304 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14

FI (4件)：

H01L21/304 622D ,  B24B37/00 H ,  C09K3/14 550D ,  C09K3/14 550Z

Fターム (19件)：

3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CB03 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17 ,  5F057AA14 ,  5F057AA28 ,  5F057BA12 ,  5F057BB03 ,  5F057CA11 ,  5F057DA03 ,  5F057EA01 ,  5F057EA07 ,  5F057EA16 ,  5F057EA21 ,  5F057EA23 ,  5F057EA26