特許

J-GLOBAL ID：201203093694469425

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法

発明者： 冨賀 敬充 ,  藤森 亨
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (1件)： 高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-288928
公開番号（公開出願番号）：特開2012-137565
出願日： 2010年12月24日
公開日（公表日）： 2012年07月19日
要約：

【課題】反射防止膜を用いず高反射基板をそのまま用いた場合において、定在波の発生が抑制され、感度が高く、焦点深度(DOF)が広く、線幅の面内均一性(CDU)にも優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により、酸強度pKaが-2〜3の酸を発生するスルホニウム化合物、(B)塩基強度pKbが5〜10の塩基性化合物、及び(C)下記一般式(I)及び(II)で表される各繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射性樹脂組成物。 上記一般式(II)中、R1は水素原子又はアルキル基を表す。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により、酸強度pKaが-2〜3の酸を発生するスルホニウム化合物、 (B)塩基強度pKbが5〜10の塩基性化合物、及び (C)下記一般式(I)及び(II)で表される各繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂 を含有する感活性光線性又は感放射性樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08F 212/14

FI (5件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R ,  C08F212/14

Fターム (51件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF27P ,  2H125AF33P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF41P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH05 ,  2H125AH06 ,  2H125AH12 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ04X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ48X ,  2H125AJ48Y ,  2H125AJ60X ,  2H125AJ70Y ,  2H125AM68P ,  2H125AM99P ,  2H125AN29P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN53P ,  2H125AN63P ,  2H125AN65P ,  2H125AN82P ,  2H125AN86P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125CA12 ,  2H125CB08 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125CD05P ,  2H125CD20P ,  2H125CD31 ,  2H125CD35 ,  2H125CD40 ,  4J100AB07P ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03P ,  4J100BB01R ,  4J100BC04R ,  4J100BC43R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38