特許
J-GLOBAL ID:201203093767907655

リーン/リッチエージングに対する耐久性を有する窒素酸化物の還元のための小細孔分子篩担持銅触媒

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 勝沼 宏仁 ,  中村 行孝 ,  堅田 健史
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-505997
公開番号(公開出願番号):特表2012-523958
出願日: 2010年04月19日
公開日(公表日): 2012年10月11日
要約:
触媒の使用方法は、触媒を化学処理中に少なくとも1種の反応物に露出させるステップを含む。前記触媒は、銅と8個の四面体原子の最大環サイズを有する小細孔分子篩を含む。前記化学処理は、還元性雰囲気に露出する少なくとも1つの区間を有する。前記触媒は、初期活性および前記還元性雰囲気に露出する少なくとも1つの区間後の最終活性を有する。前記最終活性は、200°Cから500°Cまでの間の温度で前記初期活性の30%以内である。
請求項(抜粋):
触媒の使用方法であって、 触媒を化学処理中に少なくとも1種の反応物に露出させることを含んでなるものであり、 前記触媒が、銅と小細孔分子篩を含んでなり、 前記化学処理が、少なくとも1つの還元性雰囲気への露出区間を含んでなり、 前記触媒が、前記還元性雰囲気へ露出する前における初期活性、及び前記少なくとも1つの還元性雰囲気への露出区間後における最終活性を含んでなり、 前記最終活性が、150°Cから650°Cまでの間の温度で前記初期活性の30%以内であることを特徴とする、触媒の使用方法。
IPC (8件):
B01J 29/46 ,  B01J 29/76 ,  B01J 29/85 ,  B01D 53/94 ,  F01N 3/08 ,  F01N 3/28 ,  F01N 3/10 ,  F01N 3/18
FI (10件):
B01J29/46 A ,  B01J29/76 A ,  B01J29/85 A ,  B01D53/36 102D ,  B01D53/36 102H ,  F01N3/08 B ,  F01N3/28 301P ,  F01N3/10 A ,  F01N3/18 B ,  F01N3/18 Z
Fターム (38件):
3G091AB03 ,  3G091AB05 ,  3G091AB06 ,  3G091BA07 ,  3G091BA14 ,  3G091BA39 ,  3G091CA17 ,  3G091CA18 ,  3G091FB01 ,  3G091FC02 ,  3G091GB01W ,  3G091GB17X ,  3G091HA07 ,  4D048AA06 ,  4D048AB02 ,  4D048AB07 ,  4D048AC04 ,  4D048AC09 ,  4D048BA11X ,  4D048BA35X ,  4G169AA01 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA07A ,  4G169BA07B ,  4G169BC31A ,  4G169BC31B ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA08 ,  4G169CA13 ,  4G169FC07 ,  4G169ZA11A ,  4G169ZA11B ,  4G169ZA19A ,  4G169ZA19B ,  4G169ZA43A ,  4G169ZA43B

前のページに戻る