ArFリソグラフィ用ミラー、およびArFリソグラフィ用光学部材

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：渡辺望稔 , 三和晴子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-157559
公開番号（公開出願番号）：特開2012-181220
出願日： 2009年07月02日
公開日（公表日）： 2012年09月20日
要約：

【課題】ArFリソグラフィ用ミラーに適した特性を有する光学部材、および、該光学部材を用いたArFリソグラフィ用ミラーの提供。【解決手段】光学面が下記(1)〜(5)を満たし、22°Cにおける熱膨張係数(CTE)が0±200ppb/°CであるArFリソグラフィ用光学部材。1mm≦λ(空間波長)≦10mmにおけるRMSが0.1nm以上3.0nm以下 (1)10μm≦λ(空間波長)≦1mmにおけるRMSが0.1nm以上3.0nm以下 (2)250nm≦λ(空間波長)≦10μmにおけるRMSが0.05nm以上1.0nm以下 (3)100nm≦λ(空間波長)≦1μmにおけるRMSが0.01nm以上1.0nm以下 (4)50nm≦λ(空間波長)≦250nmにおけるRMSが0.01nm以上1.0nm以下 (5)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

光学面が下記(1)〜(5)を満たし、22°Cにおける熱膨張係数(CTE)が0±200ppb/°CであるArFリソグラフィ用光学部材。 1mm≦λ(空間波長)≦10mmにおけるRMSが0.1nm以上3.0nm以下 (1) 10μm≦λ(空間波長)≦1mmにおけるRMSが0.1nm以上3.0nm以下 (2) 250nm≦λ(空間波長)≦10μmにおけるRMSが0.05nm以上1.0nm以下 (3) 100nm≦λ(空間波長)≦1μmにおけるRMSが0.01nm以上1.0nm以下 (4) 50nm≦λ(空間波長)≦250nmにおけるRMSが0.01nm以上1.0nm以下 (5)

IPC (3件)：

G02B 5/08 , C03C 3/06 , H01L 21/027

FI (3件)：

G02B5/08 A , C03C3/06 , H01L21/30 515D

Fターム (76件)：

2H042DA02 , 2H042DA12 , 2H042DA18 , 2H042DB02 , 2H042DC02 , 2H042DC03 , 4G062AA04 , 4G062BB02 , 4G062DA08 , 4G062DB01 , 4G062DC01 , 4G062DD01 , 4G062DE01 , 4G062DF01 , 4G062EA01 , 4G062EA10 , 4G062EB01 , 4G062EC01 , 4G062ED01 , 4G062EE01 , 4G062EF01 , 4G062EG01 , 4G062FA01 , 4G062FA10 , 4G062FB01 , 4G062FB03 , 4G062FC01 , 4G062FC02 , 4G062FC03 , 4G062FD01 , 4G062FE01 , 4G062FE02 , 4G062FE03 , 4G062FF01 , 4G062FG01 , 4G062FH01 , 4G062FJ01 , 4G062FK01 , 4G062FL01 , 4G062GA01 , 4G062GA10 , 4G062GB01 , 4G062GC01 , 4G062GD01 , 4G062GE01 , 4G062GE02 , 4G062GE03 , 4G062HH01 , 4G062HH03 , 4G062HH05 , 4G062HH07 , 4G062HH09 , 4G062HH11 , 4G062HH13 , 4G062HH15 , 4G062HH17 , 4G062HH18 , 4G062HH20 , 4G062JJ01 , 4G062JJ02 , 4G062JJ03 , 4G062JJ05 , 4G062JJ07 , 4G062JJ10 , 4G062KK01 , 4G062KK03 , 4G062KK05 , 4G062KK07 , 4G062KK10 , 4G062MM02 , 4G062NN04 , 4G062NN35 , 5F046CA04 , 5F046CB02 , 5F146CA04 , 5F146CB02

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