特許

J-GLOBAL ID：201203094241908238

低反射膜形成用塗布液およびその調製方法およびそれを用いた低反射部材

発明者： 杉本 敏明 ,  高信 尚史
出願人/特許権者： セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-150703
公開番号（公開出願番号）：特開2012-150425
出願日： 2011年07月07日
公開日（公表日）： 2012年08月09日
要約：

【課題】基体上に低反射膜を形成するための、単層膜において低屈折率且つ低反射率を有し、より簡便な方法で大面積の成膜が容易な低反射膜形成用塗布液およびその調製方法およびそれを用いた低反射部材を提供する。【解決手段】基材に低反射膜を形成するための低反射膜形成用塗布液であって、コロイダルシリカに対して、酸化物換算で5質量%以上、40質量%以下のタンタル化合物を含む分散液からなることを特徴とする低反射膜形成用塗布液。長径5nm以上、100nm以下の棒状コロイダルシリカ、粒径5nm以上、50nm以下の球状コロイダルシリカ、およびタンタル化合物を用いる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基材に低反射膜を形成するための低反射膜形成用塗布液であって、タンタル化合物およびコロイダルシリカを含んでなり、コロイダルシリカの質量に対して、タンタル化合物が、酸化物換算で5質量%以上、40質量%以下の範囲に含有されてなる分散液からなることを特徴とする低反射膜形成用塗布液。

IPC (2件)：

G02B 1/11 ,  C03C 17/25

FI (2件)：

G02B1/10 A ,  C03C17/25 A

Fターム (23件)：

2K009AA02 ,  2K009CC02 ,  2K009CC09 ,  2K009CC26 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  4G059AA08 ,  4G059AC04 ,  4G059EA01 ,  4G059EA05 ,  4G059EB05 ,  4G072AA28 ,  4G072BB03 ,  4G072BB07 ,  4G072CC02 ,  4G072DD06 ,  4G072DD07 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH18 ,  4G072JJ45 ,  4G072TT01 ,  4G072UU02