特許
J-GLOBAL ID：201203094633521277
光源、マスクおよび投影光学系の最適化の流れ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-240811
公開番号（公開出願番号）：特開2012-104821
出願日： 2011年11月02日
公開日（公表日）： 2012年05月31日
要約：
【課題】本発明の実施形態は、最適化する投影光学系を含むリソグラフィ投影装置を最適化する方法を提供する。【解決手段】現行の実施形態は、光源、マスク、および投影光学系を最適化するいくつかの流れ、ならびに様々な投影光学系、マスクおよび光源のうち任意のものを組み合わせる順次の反復する最適化工程を含む。投影光学系は、「レンズ」と広義に称されることがあり、したがって、最適化プロセスは、光源、マスク、レンズの最適化(SMLO)と称されることがある。部分的には、最適化に投影光学系を含むと、投影光学系の複数の調節可能な特性を導入することにより、より大きなプロセスウィンドウをもたらすことができるので、SMLOは、既存の光源およびマスクの最適化プロセス(SMO)または投影光学系の最適化を含まない他の最適化プロセスと比較して望ましいものであり得る。【選択図】図4A
請求項（抜粋）：
照明光源および投影光学系を備えるリソグラフィ投影装置を使用して設計レイアウトの一部分を基板上へ結像するためのリソグラフィプロセスを改善する、コンピュータで実施される方法であって、
前記設計レイアウトの前記一部分からパターンのサブセットを選択し、かつ初期の照明光源を選択する工程と、
前記パターンのサブセットおよび前記照明光源を同時に最適化する工程と、
前記最適化された照明光源を使用することにより前記投影光学系の特性を最適化する工程とを含む方法。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L21/30 516Z
, H01L21/30 502G
, H01L21/30 515D
, G03F1/08 A
2H095BB02
, 2H095BC09
, 5F146AA17
, 5F146AA25
, 5F146CB43
, 5F146CB45
, 5F146DA13
, 5F146DA14
