特許

J-GLOBAL ID：201203095862964820

液体処理装置

発明者： 石井 新 ,  井上 昭浩
出願人/特許権者： 株式会社日本フォトサイエンス
代理人 (3件)： 飯塚 義仁 ,  林 秀男 ,  貝塚 亮平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-183810
公開番号（公開出願番号）：特開2012-040505
出願日： 2010年08月19日
公開日（公表日）： 2012年03月01日
要約：

【課題】 小型であってコストダウンを図った簡素な構成でありながら殺菌並びに有機物分解といった処理能力のさらなる向上を実現した液体処理装置の提供。【解決手段】 被処理液体が通される流路を有する1つの処理容器内に微細気泡発生手段と紫外線ランプとを配置してなり、同一の処理容器内で微細気泡の発生と紫外線照射とを時間間隔をあまり空けずにほぼ同時に行うことによって、これらによる複合効果により被処理液体の殺菌並びに有機物分解といった処理能力のさらなる向上を実現した。微細気泡が供給された直後の被処理液体に対して紫外線を照射すると、微細気泡中の酸素等が活性化されて殺菌並びに分解効率がより向上する。微細気泡が圧壊した直後の被処理液体に対して紫外線を照射すると、紫外線照射に応じて生成される活性OH基に加えてさらに微細気泡の圧壊に応じて生成される活性基が加わり、処理が加速されて殺菌並びに分解効率がより向上する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

被処理液体が通される流路を有する処理容器と、 前記処理容器内に配置されてなり、前記流路に通される前記被処理液体中に微細気泡を供給する微細気泡発生手段と、 前記処理容器内に配置されてなり、前記流路を通される被処理液体に対して紫外線を照射する紫外線ランプと を具備する液体処理装置。

IPC (8件)：

C02F 1/72 ,  A61L 2/10 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/36 ,  C02F 1/78 ,  A61L 2/02 ,  C02F 1/20 ,  H01J 65/04

FI (8件)：

C02F1/72 101 ,  A61L2/10 ,  C02F1/32 ,  C02F1/36 ,  C02F1/78 ,  A61L2/02 A ,  C02F1/20 A ,  H01J65/04 A

Fターム (33件)：

4C058AA20 ,  4C058BB06 ,  4C058BB07 ,  4C058BB09 ,  4C058CC04 ,  4C058EE26 ,  4C058JJ14 ,  4C058KK02 ,  4C058KK07 ,  4C058KK12 ,  4C058KK21 ,  4C058KK46 ,  4D037AA03 ,  4D037AA05 ,  4D037AA11 ,  4D037AB02 ,  4D037AB03 ,  4D037BA18 ,  4D037BA23 ,  4D037BA26 ,  4D037CA12 ,  4D050AA02 ,  4D050AA05 ,  4D050AA12 ,  4D050AB06 ,  4D050AB11 ,  4D050BB01 ,  4D050BB02 ,  4D050BC09 ,  4D050BD03 ,  4D050CA03 ,  5C039AA04 ,  5C039NN04