特許

J-GLOBAL ID：201203095873653460

パターン形成方法およびパターン形成装置

発明者： 古市 考次 ,  岩島 正信 ,  真田 雅和
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (3件)： 振角 正一 ,  梁瀬 右司 ,  大西 一正
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-002871
公開番号（公開出願番号）：特開2012-143691
出願日： 2011年01月11日
公開日（公表日）： 2012年08月02日
要約：

【課題】基板表面に塗布液を塗布しこれを光硬化させることにより所定のパターンを形成するパターン形成技術において、品質の良好なパターンを効率よく形成する。【解決手段】吐出ノズル先端の吐出口521から基板Wに向けて塗布液を吐出するとともに、基板Wに塗布された直後の塗布液Pに対して第1の照射光源551,552から波長365nmのUV光L1を照射する。これにより塗布液の表面が硬化する。続いて、第2の照射光源561,562から、より長波長(例えば385nmまたは395nm)のUV光L2を、先のUV光L1の照射を受けた塗布液に照射する。長波長の光L2はより塗布液の内部まで浸透するので、内部の硬化が促進される。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

光硬化性材料を含むペースト状塗布液を基板上に所定のパターン形状に塗布する塗布工程と、 前記基板に塗布された塗布液に第1の波長を有する第1の光を照射して、前記塗布液の表面を硬化させる第1光照射工程と、 前記第1光照射工程で表面を硬化された前記塗布液に前記第1の波長より長い第2の波長を有する第2の光を照射する第2光照射工程と を備えることを特徴とするパターン形成方法。

IPC (4件)：

B05D 3/06 ,  B05D 1/26 ,  B05C 9/12 ,  B05C 5/02

FI (5件)：

B05D3/06 102Z ,  B05D3/06 102C ,  B05D1/26 Z ,  B05C9/12 ,  B05C5/02

Fターム (23件)：

4D075AC06 ,  4D075AC73 ,  4D075BB26Z ,  4D075BB46Z ,  4D075BB53Z ,  4D075CA48 ,  4D075CB38 ,  4D075DA06 ,  4D075DC19 ,  4D075EA14 ,  4D075EA21 ,  4D075EB07 ,  4D075EC10 ,  4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AB01 ,  4F041BA02 ,  4F041BA51 ,  4F042AA02 ,  4F042AA06 ,  4F042AA10 ,  4F042DB41 ,  4F042DB44