特許

J-GLOBAL ID：201203096434158174

放射源およびリソグラフィ装置

発明者： ヤクニン,アンドレイ ,  バニエ,バディム ,  イワノフ,ウラジミール ,  ループストラ,エリック ,  クリヴツン,ヴラディミア ,  スウィンケルズ,ゲラルドス ,  ラベッツスキ,ドズミトリ
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-526438
公開番号（公開出願番号）：特表2012-502492
出願日： 2009年07月21日
公開日（公表日）： 2012年01月26日
要約：

放射源(SO)は極端紫外線を生成するように構成されている。放射源(SO)は、燃料が放射ビーム(5)に接触されてプラズマを形成する位置に配置されたプラズマ形成部位(2)と、ガスが放射源(SO)を出ることを可能にするように構成された出口(16)と、少なくとも部分的に出口(16)の内部に配置された汚染トラップ(23)とを含む。汚染トラップは、プラズマの形成によって生成されるデブリ粒子を捕捉(23)するように構成されている。【選択図】 図6

請求項（抜粋）：

極端紫外線を生成する放射源であって、前記放射源は、 燃料が放射ビームに接触されてプラズマを形成する位置に配置されたプラズマ形成部位と、 ガスが前記放射源を出ることを可能にする出口と、 少なくとも部分的に前記出口の内部に配置された汚染トラップであって、前記プラズマの形成によって生成されるデブリ粒子を捕捉するように構成されている、汚染トラップと を含む、放射源。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H05G 2/00

FI (3件)：

H01L21/30 531A ,  G03F7/20 521 ,  H05G1/00 K

Fターム (11件)：

4C092AA04 ,  4C092AA13 ,  4C092AB19 ,  4C092AC09 ,  5F146GA03 ,  5F146GA21 ,  5F146GA24 ,  5F146GA27 ,  5F146GB11 ,  5F146GB13 ,  5F146GC12

引用特許：

審査官引用 (4件)

• デブリ低減システム及びリソグラフィ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-328130   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ., コーニンクレッカフィリップスエレクトロニクスエヌヴィ
• 放射線源、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-211722   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
• 放射システムおよびリソグラフィ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-308494   出願人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
• 放射ビームから粒子をフィルタ除去するように動作可能なフィルタ・システムを提供する方法、フィルタ・システム、装置、及びフィルタ・システムを含むリソグラフィ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-375653   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ