特許

J-GLOBAL ID：201203098364663120

金属錯体の製造方法及び金属錯体組成物

発明者： 薄 達也 ,  渡邊 ゆきえ ,  小林 克 ,  木村 桂三
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (3件)： 飯田 敏三 ,  宮前 尚祐 ,  梅山 謙介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-054306
公開番号（公開出願番号）：特開2012-188401
出願日： 2011年03月11日
公開日（公表日）： 2012年10月04日
要約：

【課題】目的のピリジンリガンドを有する金属錯体を高収率かつ高純度で合成し、さらに副生物が生成する場合であっても製品利用に適したものとして生成させる製造方法を提供する。【解決手段】下記一般式(1)で表される金属錯体の製造において、LL1及びLL2のうち酸性基を含む配位子を導入する工程以降で、共役酸のpKaが3以上の塩基を添加することを特徴とする金属錯体の製造方法。 M(LL1)m1(LL2)m2(X)m3・CI ・・・(1) ・Mは金属原子を表し、 ・LL1は特定の2座の配位子であり、LL2は特定の2座の配位子であり、Xは特定の配位子を表し、・m1、m2、m3は特定の整数を表し、CIは電荷を中和させるのに対イオンが必要な場合の対イオンを表す。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される金属錯体の製造において、LL1及びLL2のうち酸性基を含む配位子を導入する工程以降で、共役酸のpKaが3以上の塩基を添加することを特徴とする金属錯体の製造方法。

IPC (5件)：

C07F 15/00 ,  H01M 14/00 ,  C07D 409/14 ,  C07D 213/22 ,  H01L 31/04

FI (6件)：

C07F15/00 A ,  H01M14/00 P ,  C07F15/00 D ,  C07D409/14 ,  C07D213/22 ,  H01L31/04 Z

Fターム (35件)：

4C055AA01 ,  4C055BA02 ,  4C055BA27 ,  4C055BB02 ,  4C055BB19 ,  4C055CA01 ,  4C055DA57 ,  4C055EA01 ,  4C055GA02 ,  4C063AA05 ,  4C063BB01 ,  4C063BB03 ,  4C063CC92 ,  4C063DD12 ,  4C063EE10 ,  4H050AA02 ,  4H050AA03 ,  4H050AB92 ,  4H050WB14 ,  4H050WB21 ,  5F151AA14 ,  5F151BA11 ,  5F151FA02 ,  5F151FA06 ,  5F151FA13 ,  5F151FA15 ,  5F151GA02 ,  5F151GA03 ,  5H032AA06 ,  5H032AS16 ,  5H032CC11 ,  5H032EE02 ,  5H032EE04 ,  5H032EE16 ,  5H032EE20