研課題
J-GLOBAL ID:201204015343354870  研究課題コード:9362 更新日:2013年10月07日

高圧二酸化炭素処理による高導電性高分子薄膜作製技術の開発と応用

実施期間:2007 - 継続中
実施機関 (1件):
実施研究者(所属機関) (1件):
研究概要:
導電性高分子は基礎・応用両面から近年再び注目を集めている新素材であるが、化学的安定性や伝導度の低さが実用上の問題点である。申請者は、導電性高分子膜を高圧二酸化炭素/有機溶媒混合系で処理することで膜の電導度を10-500倍高くできることを見いだした。この新知見を元に高い電導度をもつ導電性高分子膜を作製し、等価直列抵抗が従来品の1/10となる高性能電解コンデンサ作製への基礎的知見を得る。
研究制度: シーズ発掘試験
研究所管省庁:
文部科学省
研究所管機関:
独立行政法人科学技術振興機構
上位研究課題 (1件):

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