低希土類含有量に基づく高性能磁石膜の設計開発

実施期間：2008 - 継続中
実施機関 (1件)：
実施研究者（所属機関） (1件)：
研究概要：

「本成膜手法」は、磁性膜の代表的な成膜手法であるスパッタリング法とは異なり、10-8Torr台の高真空中での成膜が可能である。そこで、「枯渇資源が注目されているDyやNdなどの希土類元素」の含有量を極力低減させた磁石膜の開発ならびにそのデバイスへの応用研究を提案する。

研究制度：シーズ発掘試験
研究所管省庁：